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试验方法与分析
第三章 實驗方法與分析
3.1 實驗流程
利用 CF 、CF /O 等氣體對整片奈米碳管以及導線孔(via)中成長
4 4 2
之奈米碳管進行後處理。待催化劑處理與奈米碳管,完成最佳成長參
數,再將成長後之奈米碳管分別施以初始條件設定的 CF 、CF /O 氣
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體作電漿後處理,並使用包括掃描式電子顯微鏡 (SEM) 、原子力顯微鏡
(AFM) 、穿透式電子顯微鏡(TEM) 、傅利葉轉換紅外線光譜儀(FTIR)
與、X 光光電子能譜儀 (XPS)及熱吸附性光譜儀 (TDS) 等儀器來做物性
與化學鍵結的分析研究。
相關使用不同儀器所分析碳管 ,被不同氣體與不同功率之電漿處
理後;整體架構顯然的迫使原始形貌轉變為破壞後的情形,實驗期間
反覆試驗,並嘗試利用彙整的數據當中;得到最佳參數條件並套用於
正在合成的結構中成長奈米碳管,期望透過氣體與電漿的作用可以有
效的達到削短奈米碳管,此次實驗以 X 光光電子能譜儀 (XPS) ;熱吸
附性光譜儀 (TDS) ,兩個儀器測試分析為主。並將所得數據資料經由圖
表示意出。經由線上數據分析的網站進一步確認,元素形態與化學特
性,本研究整個實驗規劃流程如圖 3.1所示。
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3.2 實驗與分析儀器
3.2.1 實驗材料
(1)靶材 (target) :鎳(Nickel)靶材,元素成分 : 99.99%
(2)基材(substrate) :P型 (100)矽晶圓基板
(3)通入氣體: H (氫氣 ): 99.99% 、CH 甲烷( ): 99.99%
2 4
(4)觸媒: Ni(Nickel) :99.99%
(5)緩衝層:Ni ,TiN ,TaN
3.2.2 實驗儀器
3.2.2-1 微波電漿化學氣相沉積系統 (MP-CVD)
1.型號: ASTeX PDS-17 System
2.儀器功能:主要是利用高溫下,將含碳氣體經由催化裂解為碳原子、
H
或其他氣體,用以合成奈米碳管。
2
3.MP-CVD模式 (Microwave-Plasma, 微波電漿 )
(1)成長材料:Diamond film, Nanotube
(2)晶片尺寸: 4吋以下
(3)製程氣體:H , Ar, O , N , CH
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3.2.3 分析儀器
3.2.3-1 掃描式電子顯微鏡 (SEM)
掃描式電子顯微鏡是以電子束 對試片做掃描,主要的偵測信號為
二次電子(secondary electrons) 、反射電子(backscattered electrons) 、穿透
電子 (transmitted electron) 等,儀器如圖3.2所示。
1.型號與規格:參照表 3.1
2.儀器功能:主要用來觀察試片表面或縱切面形貌 (topography)影像觀
察及其他電性性質分析。
3.2.3-2 穿透式電子顯微鏡(TEM) [60]
穿透式電子顯微鏡具有極高的穿透能力及高解析度,在材料科學
研究上已成為極有效的工具之一。由於具備超高解像能力,在一般的
影像觀察上即比其他分析工具優越許多,而依實際操作時可放大的倍
率範圍來看,穿透式電子顯微鏡也具有相當大的彈性 (從 50 X 到
1,500,000 X)依電子與物質作用所產生的訊號,穿透式電子顯微鏡分析
主要偵測的資料可分為三種:穿透電子、彈性散射電子(Elastic Scattering
Electron) 、X-ray(EDS) 等,儀器如圖3.3 。
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1.型號與規格:參照表 3
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