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TiNi合金表面原位热氧化膜的结构与光电性能的研究-影像科学与光化学
23 3 Vol.23 No.3
2005 5 Photographic Science and Photochemistry May, 2005
研究论文
TiNi
1 1 2 1 1 2 2
王改田, 涂江平, 张文魁, 张 博, 袁永锋, 黄 辉, 甘永平
(1. , 310027; 2. , 310032 )
: 采用AFMXRD 和EDS 等手段, 对TiNi 合金在空气中400 ) 800 e
下形成的氧化膜组织结构进行了分析, 并对TiNi 合金表 原位热氧化膜的光
电性能进行了研究. 结果表明,TiNi 合金在空气中氧化原位形成的氧化膜的结
构主要为金红石型二氧化钛, 不同温度下生长的氧化膜存在择优取向; 随着氧
化温度的升高, 所制备的TiO /TiNi 电极的稳态光电流和开路光电压随氧化温度
2
的升高先增大后减小,在700 e 所制备的TiO /TiNi 电极的稳态光电流最大.
2
: TiNi 合金; TiO2; 原位热氧化; 光电响应
: 1000-3231(2005) 03-0161-06 : O64 : A
,
[1,2] [ 3] [4] [ 5] [ 6]
. TiO -
2
[ 2, 7, 8] [7]
, artig
,
. ,Ti
[ 9]
,.Towata ,
NiTiO .[ 10-13] , TiNi
2
TiO , TiO , Ni ,
2 2-x
,Ti.Ti, NiP
,.TiNi
.
TiNi ,
: 2004-11-26; :2005-01-06.
: .
: ( 1963-) , , , , , , Tel/ Fax: 0571-
E-mail: tujp@ ; ( 1970-) , , E-mail: wgt 1221@ 163.com.
_
161
162 23
.
1
TiNi,10 mm@ 10 mm@ 0.9 mm ,320# 800#
, 0. 5 Lm ,,
()1 h ,, .
, , ( TiO2/TiNi
) .
AFM- Ò,Finder X
, XD-98 X ( CuKA,
4(b)/ min,2H20b ) 80b) .
, TiO2/ TiNi ,
, g/ gO, 6 mol/L KO ; Potentiostat/ Gal-
vanostat model 273A ,500 W .
30 s , 1 min 30 s ,
.
2
2.1
1(AFM) TiNi .
,, , .
, .
TiNi EDS 1.EDS
,400 e 500 e 600 e ,,700 e 800 e
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