基于 DMD 的步进式无掩模数字曝光方法及装置.pdfVIP

晶圆(芯片)加工设备 PROCESSING 基于DMD的步进式无掩模 数字曝光方法及装置 严伟 胡松 唐小萍 （中国科学院光电技术研究所，成都610209 ） 1 引言 摘要:随着器件特征尺寸的继续缩小，所需掩模的成本呈直线上升 光刻技术的更新一直是微电子技术 态势，为降低掩模成本，无掩模光刻技术成为人们研究的热点。介 进步中最引人瞩目的焦点，光刻设备的 绍了一种基于DMD的步进式无掩模数字曝光方法，并对用于实现该 曝光方法装置的设计方案和具体实现进行了论述与分析。最后利用 技术研究与开发在每一代集成电路技术 厚的光刻胶进行曝光工艺实验，实验结果表明，本装置可以实现亚 更新中都扮演着技术先导的角色。传统 微米级线条的刻蚀，较高的侧壁陡度，线条拼接结果良好，可以实 的光学投影式光刻技术已经完全成熟， 现大面积数字式曝光。 而且随着分辨率增强技术(RET)的使 关键词:数字微镜阵列 无掩模光刻 照明 用，不断向着更高的分辨率延伸，如： 接近式X射线光刻技术PXL 、极紫外投 影光刻EUVL 、电子束投影光刻技术、 基于DMD(Digital Micromirror 反射镜后通过小孔后成为点光源，再由 电子束直写、离子投影光刻技术、浸没 Device) 的步进式无掩模数字曝光技术 准直镜形成平行光束，该光束经过能量 式光学投影光刻技术、纳米压印光刻技 正好可以解决这些难题，利用DMD数 积分匀化器后入射到数字微镜DMD空 术等。但是，由于昂贵的掩模成本，或 字微镜阵列替代传统的掩模版，通过控 间光调制器上(DMD是一个阵列有m ×n 是高昂的曝光装置价格以及缺乏灵活性 制器对照明面不同区域的光进行空间调 个可偏转微平面镜组成，各微镜是否偏 等因素的影响，不能满足实验室等用户 制，形成所需要的任意灰度图案。并且 转受图形发生器传过来的0-1信号控制， 对交互设计、柔性加工的需要，因此限 该方法可采用紫外光、深紫外光、甚至 不偏转的微镜组合实现所需的掩模图 制了传统投影式光刻技术及装置的应用 更短波长的极紫外光作为光源，因而具 形) ，光线经DMD反射后，通过缩小投 范围。 有很强的技术延伸性和工艺兼容性，更 影系统成像在焦平面上，即可在光刻胶 随着微细加工技术的进一步普及 易在光刻实践中得到应用，有非常好的 表面上形成我们所需的图形。 和发展，在微纳器件制作时常常更需要 应用前景。 如果采用1 024 ×768的DMD 的微 具有较强灵活性、高效、快速、低成本 镜，设每个微镜是10 μm ×10 μm的正 的光刻技术和设备，以适应小批量、多 2 曝光方法及装置 品种的生产模式。在微光学元件的生产 在本系统中精密数字曝 加工中，对于连续浮雕面形的微光学元 光系统也即基于DMD 的步 件，由于其面形需要通过曝光剂量的精 进无掩模光刻系统。精密数 确连续调制才能获得，因而使用常规光 字曝光系统是由光源、准直 刻技术无法实现，需要能调制连续曝光 镜、均匀器、数字微阵列器 剂量的光刻技术和设备，用传统的方法 (数字掩模) 、缩小投影物镜、 (即电子束光刻制作掩模，用投影光刻 工件台及控制系统组成。该 或接近接触光刻进行复制)很难满足灵 系统的原理如图1所示，由非 活、高效、低成本要求。 点光源发出的光经椭球镜和 图1 基于DMD的步进无掩模光刻系统 32 2009.03 万方数据 晶圆(芯片)加工设备 PROCESSING 方形，则经1 ∶20的缩小投影系统后， 扩束准直光路、照明均