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抛光粉制备工艺的研究
2003年3月 抛光粉制备工艺的研究 35
抛光粉制备工艺的研究
李进 郝仕油2 闵宇霖
(1.南昌大学稀土工程中心,江西,南昌 330047 2.浙江师范大学生科院)
摘 要: 本文针对抛光粉制备工艺的发展历史、制备方法和应用领域进行了综合述
评。并对抛光粉制备工艺中影响因素提出了自己的见解。
关键词:抛光粉,制备工艺,影响因素
抛光粉的基本成分是一些金属氧化物,如 据文献记载,自从十七世纪以来,人们就开
铁、铈、锆、铝、钛、铬等金属氧化物。根据用途 始制备抛光粉来对玻璃进行抛光处理,但直到
有玻璃抛光粉,宝石抛光粉和大理石抛光粉等。 二十世纪四十年代前后,才开始制备稀土抛光
作为玻璃行业常用的抛光粉有三氧化二铁 (又 粉来抛光光学玻璃,相对早期使用的抛光粉一
称红粉)、铈基稀土抛光粉、氧化锆三类,其中铈 氧化铁,稀土抛光粉的抛光效率提高 了2—3
基稀土抛光粉被誉为最好的抛光材料;宝石抛 倍。我国从二十世纪五十年代末开始研制氧化
光粉有三氧化二铬,氧化铈和用高岭土制备的 铈抛光粉 ,原料分别以混合稀土、氟碳铈矿和纯
AL—si尖晶石和莫来石抛光粉;大理石抛光粉 氧化铈为原料生产各种规格的抛光粉。在宝石
是一种灰白色超细粉体的混合物,主要由a一 加工中常用的抛光粉 ,如三氧化二铬 ,氧化铈
03,SIl02和 Pb组成。抛光粉作为玻璃,宝石 等,由于它们会造成环境污染和影响人体健康,
和大理石行业中的抛光材料属传统应用领域, 而逐渐利用高岭土来制备宝石抛光粉。
但随着高科技的发展,特别是近年来 ,被广泛地 2 抛光粉的制备工艺 【l-5】
应用于高科技领域和高精密功能性材料的抛光 2.1 稀土抛光粉的制备工艺
当中(如光电信息材料、集成电路中的光掩模、 稀土抛光粉是得很细的氧化物,在抛光过
高密度记录磁盘玻璃基板的制造等)。为了达 程中有去除表面缺陷的能力,产生光滑的表面。
到高精密功能性材料所要求的条件,所要求的 粗结晶的抛光粉不适合使用,必须将它磨成不
抛光粉产品的物性各不相同,其制备工艺也相 擦伤表面的细度。最好的方法是制成草酸盐、
应的在发生变化。在制备工艺、性能和应用等 碳酸或氢氧化物等沉淀 ,然后煅烧成氧化物,煅
方面还存在着诸多问题,需要不断改进和提高。 烧温度刚好能使沉淀物分解,同时又能防止烧
因此寻求它们性质之间的相互关系、最佳匹配 结和晶体的快速成长。煅烧后往往进行第二次
关系、最佳工艺条件就成为了研究的重点。 研磨和煅烧。
l 抛光粉制备概况L1J 2.1.1 一般制备工艺流程
匾函 圆 一匾 圆 医 固
2.1.2 制备工艺 制备过程中选择合适的中间体及合理的工艺条
制备优质高效稀土抛光粉,关键是通过在 件来达到改善稀土抛光粉物化性能的目的。制
江 西 化 工 2OO3年第 1期
备原料有单氟碳铈矿、氢氧化稀土(富铈),稀土 2.1.1.2.氟碳铈精矿制备抛光粉工艺
盐类包括氯化稀土、草酸稀土、碳酸棉稀土等。 经过细磨、混料、氧化煅烧、球磨筛分等步
从制备工艺来看,可以分为两大类:一是以稀土
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