奈米结构多元高性能合金及其氮化物薄膜特性研究.PDFVIP

行 金奈 金 精 類 行 年年 行 理 年 ■■ 成成 果果 報報 告告 ■■ 成成 果果 報報 告告 行政院國家科學委員會補助專題研究計畫行政院國家科學委員會補助專題研究計畫 行政院國家科學委員會補助專題研究計畫行政院國家科學委員會補助專題研究計畫 □期中進度報告□期中進度報告 □□期中進度報告期中進度報告 奈米結構多元高性能合金及其氮化物薄膜特性研究 Study on the Nanostructure and Properties of Multielement High Performance Alloy and Nitride Thin Films 計畫類別 ：■ 個別型計畫 □整合型計畫 計畫編號 ：NSC 97－2221－E－492－001 執行期間 ： 97年 8月 1日至 98年 7月 31日 計畫主持人 ：蕭銘華 共同主持人 ： 計畫參與人員 ： 湯國聖、梁益詮 成果報告類型(依經費核定清單規定繳交)：■精簡報告 □完整報告 本成果報告包括以下應繳交之附件 ： □赴國外出差或研習心得報告一份 □赴大陸地區出差或研習心得報告一份 □出席國際學術會議心得報告及發表之論文各一份 □國際合作研究計畫國外研究報告書一份 處理方式 ：除產學合作研究計畫、提升產業技術及人才培育研究計畫、 列管計畫及下列情形者外 ，得立即公開查詢 □涉及專利或其他智慧財產權 ，■一年□二年後可公開查詢 執行單位 ：國家實驗研究院儀器科技研究中心 中 華 民 國 98 年 10 月 30 日 摘要 : 本研究以真空電弧熔煉技術製作TiVCrZrTa 等莫耳五元高熵合金靶材，並採用直流磁 控反應濺鍍法製鍍(TiVCrZrTa)N 薄膜，探討在不同的氮氣流量比例下(10% －90%)所製鍍之 (TiVCrZrTa)N 薄膜特性及微結構 。由 SEM觀察可發現 ，本實驗各濺鍍參數所得之 (TiVCrZrTa)N 薄膜 ，均呈現柱狀結構(columnar structure) ，且由XRD量測結果可知 ，薄膜 主要優選方向為(111) 。濺鍍功率200 瓦時 ，氮流量比例10%時薄膜沉積速率最快 ; 薄膜表面 粗糙度較粗糙約為 2.09 nm ，同樣製鍍條件下，其薄膜壓應力為最大，約2.69 GPa 。在薄膜 硬度方面 ，則是以氮流量比例50％時，硬度值最大可達到 36.77GPa 。 關鍵字 ：直流磁控濺鍍、高熵合金氮化物薄膜 、微結構分析、薄膜應力、硬度 Abstract: In this study, multi-element nitride thin films of TiVCrZrTa high-entropy alloy were prepared by DC magnetron