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半导体学报CHN S.pdf
第 卷 第 期 半 导 体 学 报
26 2 Vol.26 No.2
年 月 ,
2005 2 CHINESEJOURNALOFSEMICONDUCTORS Feb.2005
用透过率测试曲线确定半导体薄膜的
光学常数和厚度*
沈伟东 刘 旭 朱 勇 邹 桐 叶 辉 顾培夫
(浙江大学现代光学仪器国家重点实验室,杭州 )
310027
摘要:介绍了一种简单而准确地确定薄膜光学常数和厚度的方法 借助于 物理模型,用改进的单
. Forouhi-Bloomer
纯形法拟合分光光度计透过率测试曲线,获得半导体薄膜的光学常数和厚度 对射频磁控溅射和直流反应溅射制
.
备的玻璃基板上的 和 薄膜进行了实验,拟合的理论曲线和实验曲线吻合得非常好 计算得到的结果与文
-Si ZnO .
献报道的结果和台阶仪的测量结果一致,误差小于 该方法对无定形或多晶的半导体薄膜都适用,也可以用于
4%.
计算厚度较薄的薄膜.
关键词:薄膜材料;光学常数;透过率曲线; 模型;单纯形法
Forouhi-Bloomer
: ; ;
PACC 7360F 7865 6860
中图分类号: 文献标识码: 文章编号: ( )
O484.5 A 0253-4177200502-0335-06
因此由单一透过率曲线确定薄膜的光学常数和厚
[ ]
3 7
1 引言 度,引起了人们极大的研究兴趣 .
本文借助 色散模型,利用改
Forouc
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