半导体学报CHN S.pdfVIP

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第 卷 第 期 半 导 体 学 报 26 2 Vol.26 No.2 年 月 , 2005 2 CHINESEJOURNALOFSEMICONDUCTORS Feb.2005 用透过率测试曲线确定半导体薄膜的 光学常数和厚度* 沈伟东 刘 旭 朱 勇 邹 桐 叶 辉 顾培夫 (浙江大学现代光学仪器国家重点实验室,杭州 ) 310027 摘要:介绍了一种简单而准确地确定薄膜光学常数和厚度的方法 借助于 物理模型,用改进的单 . Forouhi-Bloomer 纯形法拟合分光光度计透过率测试曲线,获得半导体薄膜的光学常数和厚度 对射频磁控溅射和直流反应溅射制 . 备的玻璃基板上的 和 薄膜进行了实验,拟合的理论曲线和实验曲线吻合得非常好 计算得到的结果与文 -Si ZnO . 献报道的结果和台阶仪的测量结果一致,误差小于 该方法对无定形或多晶的半导体薄膜都适用,也可以用于 4%. 计算厚度较薄的薄膜. 关键词:薄膜材料;光学常数;透过率曲线; 模型;单纯形法 Forouhi-Bloomer : ; ; PACC 7360F 7865 6860 中图分类号: 文献标识码: 文章编号: ( ) O484.5 A 0253-4177200502-0335-06 因此由单一透过率曲线确定薄膜的光学常数和厚 [ ] 3 7 1 引言 度,引起了人们极大的研究兴趣 . 本文借助 色散模型,利用改 Forouc

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