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第 卷 第 期 年 月 物 理 学 报 () ## ’$$% ## ， ， ， S0, 9() 80 9 ## 80XJ.YJM ’$$% （ ） #$$$2?’@$’$$%() ## )##@2$) BPB T3UVWB VW8WB $’$$% I+1 9 TIF/ 9 V0L 9 基于 射线衍射的 薄膜厚度的精确测量! ! #$ ! 李洪涛 罗 毅 席光义 汪 莱 江 洋 赵 维 韩彦军 郝智彪 孙长征 （清华信息科学与技术国家实验室（筹）集成光电子学国家重点实验室，清华大学电子工程系，北京 ） #$$$% （ 年 月 日收到； 年 月 日收到修改稿） ’$$% # ’$ ’$$% ( ’) 结合 方法和线型分析方法的优点，提出了一种有效分离有限晶粒尺寸和非均匀应力等 射 *+,,+-./0123-,, 4,05 6 线衍射展宽效应的方法，可以用于 外延层厚度等参数的快速精确测量 用该方法对一系列在蓝宝石衬底上生 7-8 9 长的厚度在$ :)— :’ . 的7-8 外延膜进行了测量，并与椭圆偏振光谱法测量结果进行了比较，结果表明其差别 ! ; ，反应了这种方法的准确性9 关键词： 薄膜，厚度测量， 射线衍射 7-8 6 ： ， ， %’’ =%(( )%)$ )%’$7 一方面，射线衍射是一种评价外延膜晶体质量的 6 #: 引 言 基本手段，具有无损测试和适用于大面积样品等优 点，因此发展基于 射线衍射的厚度测量方法具有 6 7-8 基材料作为宽禁带半导体材料的典型代 重要意义9 通常，外延层的厚度可以通过 ’ 联动 # 表，被公认为是最有前途的第三代半导体材料之一9 扫描曲线的4J1KJ,,0/E1H 干涉条纹来测量，但由于 近年来，在7-8 基光电子器件和微电子器件的制作 7-8 外延膜的结晶质量不完美，在 7-8 外延膜的 ［］ # 方面取得了巨大的进展 然而由于缺少晶格匹配 联动扫描曲线中通常