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多层膜中膜厚组合周期数及基底材料对残余应力的影响-物理学报.PDF
第 卷 第 期 年 月 物 理 学 报
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!# % ’# 多层膜中膜厚组合周期数及基底材料
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对残余应力的影响
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邵淑英 范正修 邵建达
!）（中科院上海光学精密机械研究所，光学薄膜技术研究与发展中心，上海 $!%$$ ）
）（中国科学院研究生院，北京 !$$%’ ）
（ 年 月 日收到； 年 月 日收到修改稿）
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多层膜由相同沉积条件下的电子束蒸发方法制备而成，通过改变多层膜中高（ ）、低（ ）折射率
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材料膜厚组合周期数的方法，研究了沉积在熔石英和 玻璃基底上多层膜中残余应力的变化 用 光学干
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涉仪测量了基底镀膜前后曲率半径的变化，并确定了薄膜中的残余应力 结果发现，该多层膜中的残余应力为压
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应力，随着薄膜中膜厚组合周期数的增加，压应力值逐渐减小2 而且在相同条件下，石英基底上所沉积多层膜中的
压应力值要小于 玻璃基底上所沉积多层膜中的压应力值 用 射线衍射技术测量分析了膜厚组合周期数不同
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的 多层膜微结构，发现随着周期数增加，多层膜的结晶程度增强 同时多层膜的微结构应变表现出了与
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所测应力不一致的变化趋势，这主要是由多层膜中，膜层界面之间复杂的相互作用引起的2
关键词： 多层膜，残余应力，膜厚组合周期数
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