高一化学硅课件1114.ppt

【答案】　(1)SiO2＋2C Si＋2CO↑ (2)2H2O OH－＋H3O＋ (3)CH4＋H2O CO＋3H2 (4) 8．(2008年广东化学)硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题： (1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下： ①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式____________________。 ②整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质，写出配平的化学反应方程式____________________________；H2还原SiHCl3过程中若混入O2，可能引起的后果是____________________。 (2)下列有关硅材料的说法正确的是________(填字母)。 A．碳化硅化学性质稳定，可用于生产耐高温水泥 B．氮化硅硬度大、熔点高，可用于制作高温陶瓷和轴承 C．高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料——光导纤维 D．普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的，其熔点很高 E．盐酸可以与硅反应，故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅 (3)硅酸钠水溶液俗称水玻璃。取少量硅酸钠溶液于试管中，逐滴加入饱和氯化铵溶液，振荡。写出实验现象并给予解释 ________________________________________________________________________ ________________________________________________________________________ 【解析】　(2)SiC和Si3N4均为原子晶体，熔点高，性质稳定，A、B正确。光导纤维的材料为SiO2，C正确。普通玻璃的主要成分为Na2SiO3和CaSiO3，它是以石英砂(SiO2)、石灰石(CaCO3)和纯碱(Na2CO3)为主要原料反应制成的，但其不是晶体，无固定熔点。Na2CO3＋SiO2 Na2SiO3＋CO2↑；CaCO3＋SiO2 CaSiO3＋CO2↑，D不正确。常温下，Si只能与唯一一种酸HF反应不与HCl反应，E错。 【答案】　(1)①SiHCl3＋H2Si＋3HCl ②SiHCl3＋3H2O===H2SiO3↓＋3HCl＋H2↑　高温下，H2遇O2发生爆炸 (2)ABC (3)生成白色絮状沉淀，有刺激性气味的气体生成；SiO32－与NH4＋发生水解反应相互促进，SiO32－＋2NH4＋＋2H2O=== 2NH3·H2O＋H2SiO3↓ 晶体硅是一种重要的非金属材料。制备纯硅的主要步骤如下： ①高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅 ②粗硅与干燥的HCl气体反应制得SiHCl3： Si＋3HCl SiHCl3＋H2 ③SiHCl3与过量H2在1 000～1 100 ℃反应制得纯硅 已知SiHCl3能与H2O强烈反应，在空气中易自燃。 请回答下列问题： (1)第①步制备粗硅的化学反应方程式为：________________________________________________________________________ ________________________________________________________________________。 (2)粗硅与HCl反应完全后，经冷凝得到的SiHCl3(沸点33.0 ℃)中含有少量SiCl4(沸点57.6 ℃)和HCl(沸点－84.7 ℃)，提纯SiHCl3采用的方法为________________。 (3)用SiHCl3与过量H2反应制备纯硅的装置如下图(热源及夹持装置略去)： ①装置B中的试剂是　　　　，装置C中的烧瓶需要加热，其目的是： ②反应一段时间后，装置D中观察到的现象是　　　　　　　　，装置D不能采用普通玻璃管的原因是　　　　　　　　　　　　　　　　　　，装置D中发生反应的化学方程式为 ③为保证制备纯硅实验的成功，操作的关键是检查实验装置的气密性，控制好反应温度以及 ④为鉴定产品硅中是否含微量铁单质，将试样用稀盐酸溶解，取上层清液后需再加入的试剂(填写字母代号)是　　　　。 a．碘水 b．氯水 c．NaOH溶液 d．KSCN溶液 【解析】　分离沸点不同的液体方法就是分馏；根据题干“SiHCl3能与H2O强烈反应，在空气中易自燃”可知道H2的作用之一就是排尽装置内的空气，防止SiHCl3自燃，而此H2必须是干燥的可知B的作用就是干燥H2，所以选用浓H2SO4。由于通入D中应是稳定的SiHCl