金属薄膜光学常数之测量.PDFVIP

第三章 金屬薄膜光學常數之測量 3.1 前言 金屬薄膜的複數折射率及其厚度的量測在光學元件的製作品質上與 Kretschmann 組態結構上扮演著極重要的角色。如何準確的測量金屬膜的厚度及 其複數折射率將有助於提高光學元件的品質與表面電漿共振偵測器的解析度。至 目前為止 ，有許多測量金屬膜厚及複數折射率的方法 ，其包括對於反射光或穿透 光的量測、反射光的干涉條紋量測及橢圓儀法等等 [1~9] 。上述這些方法，雖然 可以快速的量測且不破壞樣品 ，同時還具有容易操作的特性 ，但大都與量測光強 度有關 ，因此量測的精確 度容易受到光源穩定度及外界環境擾動的影響 。此外， 上述之方法亦需改變入射角以求得金屬膜厚及其複數折射率，如此亦會造成實驗 上的複雜性。 為了能夠精確測得金屬膜的厚度及其複數折射率 ，同時還能夠兼具光學裝置 簡單 、操作容易 、高穩定度 、高精確度 、不易受外界影響等優點 因此在本章中，； 將提出一種簡單的方法來測量金屬膜的複數折射率及厚度。 3.2 原理 本方法的實驗架構如 Fig. 3.1所示 ，為了方便起見 ，光沿 +z 方向前進 ，水 平 方向為x軸 。所使用的光源是由 p-與 s-偏光間具有角頻差為 ω的外差光源 ，經四 分之一波片 Q所調制出的旋光外差光束，其右旋偏光與左旋偏光間的角頻差為 ω ，而此一旋光外差光源的電場形式可表示為[10]: 36 Rotation Stage Laser EO θ0 Q (0°) x AP ⊗ z FG AN (α) D Lock-in Amplifier PC Fig. 3.1 金屬膜的光學參數之測量架構。 37 ⎛ ωt ⎞ ⎜cos( ) ⎟ E Q EO ωt E ⎜ 2 ⎟ (0 ) ( ) ° ⋅ ⋅ i 0 ⎜ ωt ⎟ ⎜−sin( ) ⎟ ⎝ 2 ⎠ 1 1 1 ⎡ ⎤ ωt 1 ⎡ ⎤ ωt i