基于环形磁场励磁的两面磁力抛光试验研究GH=31D3+5-湖南大学学报.PDFVIP

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2017-11-18 发布于天津
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基于环形磁场励磁的两面磁力抛光试验研究GH=31D3+5-湖南大学学报.PDF

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基于环形磁场励磁的两面磁力抛光试验研究GH=31D3+5-湖南大学学报.PDF

第卷第期湖南大学学报自然科学版年月文章编号基于环形磁场励磁的两面磁力抛光试验研究阮日新罗虎王永强陈逢军胡天尹韶辉湖南大学国家高效磨削工程技术研究中心湖南长沙长沙纳美特超精密制造技术有限公司湖南长沙摘要磁力抛光多数以单面抛光为主较少有双面同时有效抛光方式本文提出了基于环形磁场励磁的磁力抛光新工艺该方法可以同时有效抛光两个表面通过设计能励磁环形磁场的电磁铁并进行三维有限元仿真分析搭建了环形磁场双面抛光装置利用该平台进行不锈钢两面抛光工艺试验研究探讨了电流强度磁极与工件间间隙主轴转速和抛光时间工艺等参数对表面粗糙度的影响得出表面粗糙度随着抛光时间工作间隙工件转速的增大而减小设计正交实验方案得出合理的两面磁力抛光工艺参数并最终取得了具有良好表面粗糙度的两面工件样品试验证明该方法可以同时对工件的两个表面进行抛光两个表面的表面粗糙度由最初下降到和关键词磁力研磨环形磁场两面抛光磁场仿真中图分类号文献标识码