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3s卷第1期 人 工 晶 体 学 报 v。1．38No．1
—2009年2月 JOURNALOFSYNTHETICCRYSTALS February，2009
壳熔法生长技术及其应用
徐家跃1一，展宗贵2，张道标2，何雪梅2
(I．上海应用技术学院材料工程系，上海200235；2．中国科学院上海硅酸盐研究所。上海200050)
摘要：壳熔法是利用高频感应电源加热使原料内部熔化并由水冷系统在其外围形成硬壳作为坩埚的一种晶体生长
技术，特别适合于高温和难熔晶体的生长。本文介绍了壳熔法晶体生长原理和特点，综述了壳熔法生长立方氧化
锆晶体的研究进展，探讨了壳熔法的其它工业应用，包括高温合金的铸造、核废料的处理、多晶硅的制备等。
关键词：壳熔法；立方氧化锆；晶体生长
中图分类号：078 文献标识码：A
Skull ProcessandIts
Melting Applications
Xue．mei2
XU胁．yuel’，ZHANZong．gui2，ZHANGDao—bia02，HE
ofMaterialsScienceand Institute Institute
(1．School Enginec她，Shanghai
of 0f
Ceramics，ChineseAcademySciences。Shanghai
200050。China)
23
(Rea．／ved
July2008，mⅨ≯耐25September2008)
isa for of
Abstract：Skull suitablethe
meltingprocess growthhigh·temperaturecrystals
technique by
radio therawmaterialsand athinskullaroundtheoutsideofthemeltas
frequency(RF)heatingforming
acrucible．Inthis oftheskull was in
introducedandthe
paper，theprinciple meltingprocess progress
ofcubiczirconia was
industrial reviewed．Otheroftheskull
growth crystals applications meltingprocess
are a8 ofnuclear
concerned，suchcastinghightemperatureaJ
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