外加电磁直流磁控溅射法低温沉积ZnOAl薄膜的研究.pdfVIP

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2017-11-06 发布于湖北
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外加电磁直流磁控溅射法低温沉积ZnOAl薄膜的研究.pdf

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Al 外加电磁直流磁控溅射法低温沉积ZnO 薄膜的研究。张小波·裴志亮肖金泉宫骏孙超· (中国科学院金属研究所材料表面工程研究部，沈阳110016) 摘要：采用外加电磁线圈直流磁控溅射法低温制备了ZnO。Al透明导电薄膜，研究了不同沉积参数对AZO薄膜电学性能的影响。通过改变外加同轴线圈磁场来改交基片处等离子体密度，并用Langmuir探针进行了测量。研究结果表明：低温沉积(100℃)时，增加基片区域等离子体密度可以显著改善AZO薄膜的电阻率及其空间均匀性，同时也改善了表面形貌，并对其机理进行了分析。关键词：ZnO：Al；透明导电薄膜；反应溅射，电磁线圈 ofZnO：AIThinFilmsatLow Preparation DepositionTemperature with Coilo DCPlanar aDCSolenoid by MagnetronSputtering Xiaobo·PeiXiao JunSunChao· Zhang ZhiliangJinquanGong ofMetal (DivisionofSurfaceand ofMaterials，Institute Engineering of 110016) Research，Chinese AcademySciences，Shenyang effectsofdifferent ontheelectrical ofZnO： Abstract：The parameters properties A1thinfilm atlowsubstrate were ina prepared temperatureinvestigatedDC-planar wasvaried a sputteringsystem．Near-substrateplasmadensity using magnetron with external characterizedaflat balance coil，and by magnetronalong axially its resultsshowedthattheelectrical and Langmuirprobe．Experiment properties thinfilm lowsubstrate as