电沉积铜薄膜中内应力与织构特征.pdfVIP

电沉积铜薄膜中内应力与织构特征 洪波 姜传海 王新建 吴建生 (上海交通大学材料科学与工程学院，上海200240) 摘要：利用x射线衍射方法分析了电沉积铜薄膜的内应力及其织构特征。结果表明，随薄 u 膜厚度的增加，薄Ng,J虑力增人：当厚度超过10m时，薄膜内廊力增幅减缓。另外，电沉 积铜薄膜具有较强的(220)丝织构，随着铜薄膜内应力的增加(220)丝织构增强，同时叠 加有板织构的特征。基丁．品体虑变能各向异性可以解释，随着薄膜内应力的增加，应变能对 铜薄膜织构形成的影响越人。丝织构金属薄膜进一步形成板织构的驱动力来自于薄膜晶体不 同取向应变能的著异。 关键词：电沉积铜薄膜，XRD，内应力，织构 1．引言 铜薄膜由于具有诸多优良特性，可，“泛麻用于许多领域。多晶金属薄膜不可避免存在内 麻力与织构问题，对其电学和力学性能都有很人的影响。薄膜中内应力为平面应力状态，而 且警现丝织构特征，即品粒的某个品面趋向丁同薄膜表面平行，各品粒绕其择优取向轴无序 分布。当品粒发生重朋,-j-，也可能形成板织构，从而影响薄膜的某些性能。关丁薄膜丝织构 形成的研究。已有基丁．薄膜中