本底真空度对PVD_TiN涂层组织和性能的影响.pdf

第3l卷 第6期 江 西 科 学 Vo1．3lNo．6 2013年 l2月 JIANGXI SCIENCE Dec．2Ol3 文章编号：1001—3679(2013)06—0797～03 本底真空度对 PVD／TiN涂层组织和性能的影响 魏仕勇，付青峰，曹美蓉，万珍珍 (江西省科学院铜钨新材料重点实验室，江西 南昌330029) 摘要：采用物理气相沉积 (PVD)TiN涂层的表面处理技术，对合金结构钢进行表面强化处理。分析 了不同本 底真空度下TiN涂层的硬度、膜基结合力以及涂层颗粒尺寸等。结果表明。本底真空度在 7．8×10一～10．0× 1O Pa范围内，本底真空度与涂层颗粒尺寸成反比，与硬度和膜基结合力成正比。当其为7．8X10 Pa时进 行 30—40min沉积的涂层，涂层硬度可达到 l878．63HV。．，结合力达到7．86N。 关键词：本底真空度；PVD；TiN涂层 ；42CrMo钢 中图分类号：TG174．44 文献标识码 ：A EffecttheBachgroundVacuum DegreetheM icrostructure andPropertiesoftheTiN CoatingDepositedbyPVD WEIShi—yong，FUQing-feng，CAOMei—rong，WANZhen—zhen (InstituteofAppliedPhysics，JiangxiAcademyofSciences，Jian~iNanchang330029PRC) Abstract：Thealloysteelwasprocessedsurfacestrengtheningtreatmentbythephysicalvapordeposi— tiontechnology(PVD)．Itwasanalyzedthehardness，thefilmadhesionandparticlesizeofTiNcoat— ingunderdifferentbackgroundvacuum inthispaper．Theresultsshow thatthevacuum dergeeisin— verseproportionaltohteparticlesizeofcoatinganddirectproportionaltohtehardnessandadhesion in7．8X10～ ～10．0X10～ Parange．W henthe7．8X10一 Pa．thehardnessofTiN coatinghasup tol878．63HV01andthebindingforceofcoatingisupto7．86N intheprocessofcoatingdeposi— ． tionat30—40 min． Keywords：Bachgroundvacuum degree，PVD，TiN coating，42CrMosteel 模具等产品取得广泛的应用 j。在 TiN涂层沉 0 引言 积过程 中，本底真空度是一个重要的工艺参数。 PVD镀膜(真空离子镀膜)技术，其具体原理 本文主要研究本底真空度对 PVD沉积 TiN涂层 是在真空条件下，采用低 电压、大电流的电弧放电 组织和性能的影响。 技术，利用放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气 l 材料及试验方法 体都发生电离，利用电场的加速作用 ，使被蒸发物 质及其反应物沉积在工件上 ¨J。用该技术制备