电子束物理气相沉积钇钛合金薄膜的组分和厚度分布-中国科学杂志社.PDFVIP

中国科学 E 辑 : 技术科学 2008 年 第 38 卷 第 7 期 : 1106 ~ 1117 SCIENCE IN CHINA PRESS 电子束物理气相沉积钇钛合金薄膜的 组分和厚度分布 李帅辉, 舒勇华, 樊菁* 中国科学院力学研究所高温气体动力学重点实验室, 北京 100190 * E-mail: jfan@ 收稿日期: 2007-01-23; 接受日期: 2007-04-01 国家自然科学基金资助项目(批准号: 摘要 大面积薄膜的组分和厚度分布是实际工艺中最为关心的问题 关键词 之一. 利用实验和直接模拟Monte Carlo(DSMC)方法, 分别研究了双电 电子束物理气相沉积 子束和三电子束物理气相沉积(EBPVD) 中, 钇和钛蒸气原子的三维低 薄膜 密度、非平衡射流, 获得了它们在100 和150 mm 单晶硅基片表面的沉 厚度和组分分布 蒸气原子 积厚度和组分的分布. DSMC 结果与钇和钛的蒸发速率的石英晶振探 非平衡输运 头原位测量值, 沉积薄膜厚度分布的台阶仪和 Rutherford 背散射仪的 测量数据, 沉积薄膜组分分布的 Rutherford 背散射仪和电感耦合等离 子体原子发射光谱仪测量值, 均相符甚好. 这表明通过 DSMC 方法与 精细测量相结合, 可在原子水平上实现EBPVD 输运工艺的定量预测和 设计. 在大面积多组分薄膜的物理气相沉积工艺中, 气相流场的预测和控制是十分重要的. 它 决定着薄膜组分和厚度的分布, 是真正实现原子水平材料设计和制备的关键步骤之一. 本文主要研究多源电子束物理气相沉积(EBPVD) 中的低密度、非平衡流场及其在基片表 面的粒子通量. EBPVD是真空薄膜制备的常用方法, 它利用灯丝加热后发射的电子束, 经电场 加速、磁场聚焦后, 高速撞击置于水冷坩埚之中的蒸发材料. 蒸发材料表面原子吸收电子携带 的动能, 温度迅速升高, 在真空环境下蒸发或升华形成的低密度、非平衡蒸气粒子射流与基片 [1] 相撞, 在适当的条件下生长为薄膜 . 早期的基片表面粒子通量模型是以自由分子流为基础的 [2,3]. 对于面蒸发源, 若忽略蒸气 粒子之间的相互碰撞, 则蒸发源表面发射出来的蒸气粒子沿直线路径飞向基片, 故任一基片 面元的粒子通量 1106 中国科学 E 辑: 技术科学 2008 年 第 38 卷 第 7 期 As cosφ cosϕ q = q , (1) s 2 e πr 其中φ 和ϕ 分别是该面元中心和蒸发源中心连线与蒸发源法向和该面元法向的夹角. 余弦律(1)直观简单, 但实际观测发现 [4]