直流等离子体喷射法制备氮化碳涂层的研究.PDFVIP

10 工 具 技 术 直流等离子体喷射法制备氮化碳涂层的研究 李文帅，相炳坤，庆振华，左敦稳，孟兆升 南京航空航天大学 摘要：氮化碳因预言具有超金刚石硬度、高热稳定性及优异的摩擦磨损性能 ，在刀具涂层的应用领域具有巨 大的潜力，引起了世界上科研工作者的广泛关注。本文以cF+N +H：+Ar为反应气体，通过直流等离子体喷射 法(DCPlasmaJetCVD)，在si[100]基底上以金刚石薄膜为过渡层 ，成功制备了氮化碳涂层。利用扫描隧道显微 镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)、拉曼光谱 (Raman)等现代理化测试手段 ，对所制备涂层的表面形貌 、成分结构进 行了表征和分析。研究结果表明：所制备的涂层中金刚石过渡层表面生长了线度约300—600nm 的CN 晶粒，为 亚微米级别 ，晶形较为清晰，呈现不规整的柱状，样品中主要含有 一CN 与 [3-c，N ，涂层中N的含量为9．8％。 关键词：氮化碳涂层；直流等离子喷射法 ；工艺参数；表征 中图分类号：TG17 文献标志码 ：A n ResearchonPreparingCarbonNitrideCoating c byDCPlasmaJetCVD Method . LiWenshuai，XiangBingkun，QingZhenhua，ZuoDunwen，MengZhaosheng Abstract：Carbonnitridehasbeenpredictedtohavingthepropertiesofsuper—diamondhardness，highthermalstabil— m ityandlowfrictionandwearcoefficient，whichhasenormouspotentialinthefieldoftoolcoatingapplication．Itcauses o wide—spreadconcernofmanyscientistsintheworld．ThecoatingwasdepositedO11Si[100]substratebydirectcurrent plasmajetCVD(DCPJCVD)，whichuseddiamondfilmasbufferlayerandusedCF4，N2，H2andArasreactantgases． c Thesurfacetopography，structureandchemicalbondfomr ationwerecharacterizedbySEM ，AFM ，Ramanand兀 IR．The . resultshowedthatsubmicroncrystallinecarbonnitride(300—600nm)basedonthediamondfilmasbufferlayerwaspre— pared，anditscrystalmorphologywasclear，andcolumnar—like．Thesamplemainlycontains仅一C3N4andB—C3N4，andthe m nitrogencontentinthefilm was9．8％ ． p Keywords：carbonnitridefilm；DCPJCVD；parameters；characterization