南昌大学材料测试分析 期末重点.docVIP

第一章 1、连续X射线：从某一短波限(。开始，直至波长等于无穷大((的一系列波长。 特征X射线： 具有一定波长的特强XX射线谱上。 连续X射线谱：强度随波长连续变化的谱线。 特征X射线谱：当管电压达到阳极材料某特征UK时，在某特定波长范围处，产生的强度特别大的谱线 X射线管适宜工作电压U≈（3～5）Uk 光电效应：当入射光子的能量等于或大于碰撞体原子某壳层电子的结合能时，，，，，，X射线形式辐射，。 俄歇效应：当原子中K层的一个电子被打出后，它就处于K激发状态，其能量为Ek。如果一个L层电子来填充这个空位，K电离就变成了L电离，其能由Ek变成El，此时将释Ek-El的能量，可能产生荧光χ射线，也可能给予L层的电子，使其脱离原子产生二次电离。即K层的一个空位被L层的两个空位所替代，这种现象称俄歇效应。 相干散射：当入射线与原子内受核束缚较紧的电子相遇，光量子能量不足以使原子电离，但电子可在X射线交变电场作用下发生受迫振动，这样的电子就成为一个电磁波的发射源，向周围辐射与入射X射线波长相同的辐射，因为各电子所散射的射线波长相同，有可能相互干涉，故称相干散射。 不相干散射：能量为hv的光子与自由电子或受核束缚较弱的电子碰撞，将一部分能量给予电子，使其动量提高，成为反冲电子，光子损失了能量，并改变了运动的方向，能量减少hv，显然v`v，此为不相干散射。 2、连续谱受管电压、管电流和阳极靶材的原子序的作用及相互关系 见书P7、9 第二章 1、晶面指数 干涉面指数：晶面（h k l）的n级反射面（nh nk nl）用（H K L）表示，称为反射面或干涉面，干涉面的面指数即干涉面指数，有公约数n。干涉面间距dHKL=a/根号(H^2+K^2+L^2)。 布拉格方程 见书P25 布拉格方程 2dsinθ=λ中的d、θ、λ分别表示什么？布拉格方程式有何用途？ 答：dHKL表示HKL晶面的面网间距，θ角表示掠过角或布拉格角，即入射X射线或衍射线与面网间的夹角，λ表示入射X射线的波长。 该公式有二个方面用途： （1）已知晶体的d值。通过测量θ，求特征X射线的λ，并通过λ判断产生特征X射线的元素。这主要应用于X射线荧光光谱仪和电子探针中。 （2）已知入射X射线的波长， 通过测量θ，求晶面间距。并通过晶面间距，测定晶体结构或进行物相分析。 第三章 1、产生电子衍射的充分条件是Fhkl≠0， 产生电子衍射必要条件是满足或基本满足布拉格方程。 系统消光：由于FHKL＝0而使衍射线消失的现象称为系统消光。 几种点阵的结构因数计算 见书P34 3、多晶体衍射的相对积分强度（见书P44）： 4、总结简单点阵、体心点阵和面心点阵衍射线的系统消光规律。 晶体结构 结构消光（Fhkl=0）条件 简单主体 无结构消光 体心立方 h+k+l=奇数 面心立方 h、k、l奇偶混合 体心正方 h+k+l=奇数 第四章 1、衍射仪测量在入射光束、试样形状、试样吸收以及衍射线记录等方面与德拜法有何不同？ 衍射仪法 德拜法 试样形状 块状、粉末 粉末细柱状 试样吸收 吸收系数是定值 吸收系数随(角改变 入射光束 有一定发散度 平行光 衍射线记录 计数管 底片 乘积RC称为积分电路（计数率计）的时间常数。时间常数愈大，计数率计对衍射强度的变化愈不敏感，表现为衍射花样愈显平滑整齐，但滞后也愈严重，即衍射峰的形状位置受到歪曲也愈显著；时间常数过小，由于起伏波动太大将给弱峰的识别造成困难。 连续扫描：该法效率高，精度差，用于物相定性分析。采用计数率仪计数，试样与计数管以1:2角速转动， 计数管以一定的扫描速度，从起始角向终止角扫描。记录每一瞬时衍射角的衍射强度，绘制衍射图。 步进扫描：该法采用定标器计数，，。，(如此0。020)(如5s)，，。 时间常数 增大时间常数可使衍射峰轮廓及背底变得平滑，但同时将降低强度和分辨率，并使衍射峰向扫描方向偏移，造成峰的不对称宽化。 6、徳拜相的装片方法，各种装片法的主要用途。摄照参数的选择。 德拜相装片：1）、正装法：X-ray从底片接口处射入，照射试样后从中心孔穿出，低角弧线接近中心孔，高角线条靠近端部，可用于一般物相分析； 2）、反装法：从中心孔穿入，从接口处穿出，高角线条集中于孔眼附近，适用于点阵参数的测定； 3）、偏装法：在底片上开两个孔，X-ray先后从此两孔通过，衍射线条形成围绕进出光孔的两组弧对，较为常用。可消除底片收缩或相片名义半径不准确引起的误差。 参数选择：X射线管阳极元素、滤片、管电压、管电流、曝光时间。 第五章 1、物相定性分析的原理是什么对食盐进行化学分析与物相定性分析，所得信息有何不同（1）物相定性分析的原理:X射线在某种晶体上的衍射必然反映出带有晶体特征的特定的衍射花样(衍