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混凝程序去除非晶形二氧化硅及其作用机制探讨.doc
混凝程序去除非晶形二氧化硅及其作用机制探讨
摘要
考虑目前工业废水中难以去除之溶解性的非晶形二氧化硅,为水回收处理上的一大问题,而针对整个水回收前处理程序中又无良好之SiO2前处理技术,故本研究针对以化学混凝单元技术着手研究其于SiO2去除之作用机制及特性,期能以化学混凝作为良好之SiO2处理前处理技术。
实验中以批次之化学混凝实验进行探讨,首先以不同程序试验-〝单纯混凝程序〞、〝单纯胶凝程序〞、〝混凝→胶凝程序〞及〝混凝→胶凝→胶羽慢混程序〞,确立以混凝去除SiO2之作用机制及去除特性接着进行pH的影响探讨。
经程序试验比较多元氯化铝(PACl)及硫酸铝(Alum)之混凝剂结果发现混凝剂以PACl为佳,混凝剂量与SiO2之去除呈现正比例关系,考虑避免形成SiO2沈淀物于后续薄膜单元上,最适操作加药量为60 mg/L as Al2O3,胶凝剂以PAA=0.5 mg/L为佳,有助于胶羽之稳定形成,而再次添加胶羽慢混可些微提升SiO2去除效果,但却对于COD的去除极具效果,整体而言,混凝去除SiO2之主要作用机制为「吸附电中性」。
另外在pH试验中,发现随pH增加,其离子化作用能增加SiO2溶解度,增进PACl去除SiO2之效果,最适实厂操作之pH为8。
综合实验结果发现以PACl为混凝剂,能有效降低二级处理水中之SiO2浓度,以去除效果而言,极具作为前处理技术之可行性,应能提升后续处理单元的效率与使用寿命,可作为实际回收处理操作之参考。
关键词:非晶形二氧化硅、吸附电中性
一、前言
工业区所产生之废水而言,可能含有较高浓度的SiO2,而SiO2所造成的积垢问题及锅炉积垢控制,更是亟求解决之问题。于水回收再利用时,部分产业的回收水质及SiO2需达到超纯水标准,必需藉由离子交换树脂或逆渗透处理单元,方能达到其水质需求。而对于SiO2的去除,目前并无良好之前处理技术,故本研究以化学混凝程序探讨对SiO2之去除特性,期能成为去除SiO2之良好前处理技术。
二、文献回顾
2.1 SiO2的基本化学特性
二氧化硅溶于水中时,最初是以单硅酸形式存在【Meyers, 1999.】。但Si(OH)4极容易产生水解作用【Willey, 1974】,所以硅在水中的溶解和沉淀包含籍由OH-催化的水解和脱水作用:
质会因互斥作用,稳定存在于水中【Alexander et al., 1954;Dmitrevskii et al., 1971】。而随着水中多价阳离子浓度的增加,会与碳酸或氢氧基造成之碱度,会使硅生成其氢氧化物沈淀,或其他盐类造成硅的沈淀,使得Silica溶解度少【Iler, 1979;Sheikholeslami et al., 2001】,例如铝被认为极易与硅反应形成氢氧化物沈淀。
而将溶解于水中的非晶形二氧化硅(Amophous Silica)型态以粒径做为划分,则将型态画分为以下几种【Sheikholeslami, 2001;Meyers, 1999】(其划分详见表1.):
表1. 以颗粒粒径划分二氧化硅之型态
Size VS. Type of Silica Size(μm) Filterable;Particulate 0.45 Colloidal 0.45~0.01 Polymeric 0.01~0.0001 Monomeric 0.0001
在 pH = 7,二氧化硅表面带着非常微弱的负电,与水作用,形成解离的 Silanol groups ,随着
pH增加,负电的键结愈多,在水中与其他负电物
1. 朝阳科技大学环境工程与管理系硕士
2. 朝阳科技大学环境工程与管理系助理教授
2.2 以混凝去除SiO2之原理
化学混凝亦是沈淀去除法的一种,可将废水中粒径为0.1 μm至10 μm的成分凝集去除【Levine et al., 1985】。
混凝沉淀之目的,在使无法藉单纯沉淀去除的悬浮物质,经由凝聚予以沉淀分离。而SiO2便是在水中稳定存在,难以去除的物质,所以近年来亦
有学者投入以混凝去除SiO2之研究,加以药剂的进步,很多效果极佳的效果的凝聚剂开始广泛应用。
对于本研究之Dissolved Silica而言,alumina (Al2O3)是绝佳的吸附剂。【Sheikholeslamia et al., 2001】,Sugita, (1999)亦指出利用铝盐去除 silica 会形成铝硅盐类 (xAl(OH)3. y SiO2.nH2O),其化学反应如下所示:
AlOH.H2O + Si(OH)4 → Al(OH)3.SiO2 + 2H2O
利用本研究之SiO2于废水中会带微弱负电之特质,于化学混凝去除时,藉由凝结剂(coagulant)的添加,可由吸附及电性中和(Adsorption an
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