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介质表面高功率微波击穿中释气现象的数值模拟研究

物理学报 Acta Phys. Sin. Vol. 60 ,No. 2 (2011) 025217 介质表面高功率微波击穿中释气 现象的数值模拟研究 蔡利兵1) 王建国1)2 ) 1)( , 7 10024 ) 西北核技术研究所 西安 2 )( , 7 10049 ) 西安交通大学电子与信息工程学院 西安 (2009 12 24 ;20 10 4 27 ) 年 月 日收到 年 月 日收到修改稿 (HPM) , PIC (partiele-in-cell )-MCC (Monte Carlo 建立了一个简单的高功率微波 介质表面击穿释气模型 并采用 collisions) , HPM 方法 通过自行编写的介质表面击穿数值模拟程序对不同释气条件下的介质表面 击穿过程进行了 , . , 数值模拟研究 得到了击穿过程中电子数量等的时间图像和不同释气速度下的击穿延迟时间 模拟结果表明 对于 HPM , , 具有一定时间宽度的 脉冲 当介质表面气体脱附速度较小时 由于介质表面气体层形成太慢而不会发生击 ; , . 穿 只有当脱附速度大于一定值时 击穿才会发生且击穿延迟时间在一定范围内随着脱附速度的增加而缩短 最 , HPM , , 后 将数值模拟得到的介质表面 击穿数据 与单极性表面击穿的实验诊断图像进行了对比 两者的发展趋势 符合很好. : , , , 关键词 释气现象 介质表面击穿 高功率微波 数值模拟 PACS :52 . 80 . Pi ,52 . 65 . - y ,52 . 20 . Fs , 、 释气现象 由于对介质表面吸附气体的种类 密度 , . 1. 引 言 及脱附速度的复杂性 目前还缺乏定量研究 本文 , 建立了一个简单的介质表面击穿释气模型 并通过 随着高功率微波(high power microwave ,HPM ) PIC (particle-in-cell)-

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