使用ZEMAX进行优化设计与相差分析.doc

使用ZEMAX?于设计、优化、公差和分析 ? 摘要 光学设计软件ZEMAX?的功能讨论可藉由使用ZEMAX去设计和分析一个投影系统来讨论，包括使用透镜数组 (lenslet arrays) 来建构聚光镜 (condenser)。 简介 ZEMAX以非序列性 (non-sequential) 分析工具来结合序列性 (sequential) 描光程序的传统功能，且为一套能够研究所有表面的光学设计和分析的整合性软件包，并具有研究成像和非成像系统中的杂散光 (stray light) 和鬼影 (ghosting) 的能力，从简单的绘图 (Layout)一直到优化和公差分析皆可达成。 　　根据过去的经验，对于光学系统的端对端 (end to end)分析往往是需要两种不同的设计和分析工具。一套序列性描光软件，可用于设计、优化和公差分析，而一套非序列性或未受限制的 (unconstrained) 描光软件，可用来分析杂散光、鬼影和一般的非成像系统分析，包括照明系统。 　　序列性描光程序这个名词是与定义一个光学系统为一连串表面的工具有关。所有的光线打到光学系统之后，会依序的从一个表面到另一个表面穿过这个系统。在定义的顺序上，所有的光线一定会交到所有的表面，否则光路将终止。光线不会跳过任何中间的表面；光线只能打在每一个已定义的表面一次。若实际光线路径交到一个表面上超过一次，如使用在二次描光 (double pass) 中的组件，然后在序列性列表中，必须再定义超过一次的表面参数。 　　大部份成像光学系统，如照相机镜头、望远镜和显微镜，可在序列性模式中完整定义。对于这些系统，序列性描光具有许多优点：非常快、非常弹性和非常普遍。几乎任何形状的光学表面和材质特性皆可建构。在成像系统中，序列性描光最重要的优点为使用简单且高精确的方法来做优化和分析。序列性描光的缺点，包括无法追迹所有可能的光路径 (即鬼影反射) 和许多无法以序列性方式来描述的光学系统或组件。 　　非序列性描光最常用来分析成像系统中的杂散光和鬼影，甚致分析照明和其它非成像系统。在非序列性描光中，光线入射光学系统后，是自由的沿着实际光学路径追迹；一条光线可能打到一个对象 (object) 许多次，而且可能完全未打到其它对象。此外，非序列性方法可用来分析从光学或机构组件产生的表面散射 (scatter)，和从场内 (in-field) 和场外 (out-of-field) 的光源所产生的表面反射而形成的鬼影成像。 ZEMAX的功能 ZEMAX可以用于一个完全序列性模式中、一个完全非序性模式中和一个混合模式中，混合模式对分析具有大部分序列性而却有一些组件是作用在非序列性方式的系统，是相当有用的，如导光管 (light pipes) 和屋顶棱镜 (roof prisms)。 序列性系统需定义视禓角 (field of view)、波长范围和表面数据。序列性设计的最重要参数之一，为系统孔径 (system aperture)。系统孔径，常指入瞳 (entrance pupil) 或孔径光栏 (aperture stop)，它限制可从已定义视场入射光学系统的光线。光学表面可以是折射、反射或绕射。透镜可以是由均匀或渐变折射率材质所制成。表面的下弯 (sag) 可以是球面、圆锥面 (conic)、非球面 (aspheric)或藉由多项式或其它参数函数来定义。也包含了许多绕射光学组件模型。此外，一个使用者自定表面的功能，允许设计者以撰写程序的方式来建构任何实际的表面下弯或相位分布。 一些功能可以用来分析系统，包括数个系统绘图 (layouts) 类型、汇出CAD格式的表面信息功能、光点图 (spot diagrams)、光扇图 (ray fan) 和光程差图、绕射调变转移函数 (modulation transfer function, MTF) 和点扩散函数 (point spread function, PSF) 图、包围圆 (encircled) 和包围矩形 (ensquared) 的能量信息、像差计算 ( 塞德 (Seidel) 和策尼克 (Zernike) )、理想或偏斜 (skew) 高斯光束参数计算、极化描光和波前传播工具。 优化 序列性描光软件的关键功能即是可以快速且精确的优化一个光学设计。主要的优化技巧是以减幅最小均方根 (damped least squares, DLS) 的算法为基础，并使用主动减幅 (active damping)。此外，ZEMAX包括全域性优化功能，其以结合减褔最小均方根过程的优化算法为基础。优化是以使系统绩效函数 (merit function) 的总值达到最小为基础。简单的说，绩效函数为一种对一个理想光学系统的数值描述。重要的是，绩效函数代表光学系统的要求性能