微压印光刻工艺中光照系统与复型工艺研讨.pdfVIP

论文题目: 微压印光刻工艺中光照系统与复型工艺研究. 专 业 : 机械工程 硕 士 生 : 王 立 永 (签名) 指导教师: 李涤尘教授 (签名).1glA 卢凤兰高工 签〔名)-J--I 摘 要 本论文研究了基于模具复型和紫外光固化成型工艺的软压印光刻技 术，该方法使用成本较低的硅橡胶材料和光固化材料来实现图形的转移， 大幅度降低了is设备的制造成本和使用成本，为MEMS和Ic设备的制造 提供了一种新的方法。本文对该工艺中的关键技术一光照系统、抗蚀剂与 光源的匹配性、微模具制造、压印和脱模特性等工艺进行了系统的理论分 析和实验研究。 光源与抗蚀剂的匹配性是影响微复型质量的重要因素之一。根据光 源、光源透过石英玻璃背衬和光源透过母板后的频谱特性与光敏树脂频谱 曲线的匹配性，来完成光源、模具材料和背衬材料的选择 :通过模具材料 性质和复型质量的分析，完成模具厚度的设计。 研究了硅橡胶模具复制过程中，固化剂的添加量、真空压力、加热温度 和加热时间等参数对压印模具复型精度的影响，得到了压印模具制作的最 佳工艺，使模具的复型精度达到95.37%0 通过实验，对光照时间、光照距离、下压力和脱模力等工艺参数进行 了优化，在抗蚀剂上获得复型精度为99.42%的图形。同时，根据优化的工 艺条件和背衬的受力分析，选择了背衬厚度;并对下压过程进行了静力学 分析，得到下压过程中各参数的相互关系。 本文建立了光照系统与抗蚀剂的匹配性规律，研究了光固化复型工艺 的精度问题，通过正交实验分析和工艺过程参数优化，该工艺的制作精度 ’本文得到国家自然科学基金项目及国家863计划项目(2002AA420050) 资助 。 达到了94.82%0 关 键 词:压印光刻 硅橡胶模具 抗蚀剂 光固化成型 论文类型:应用基础 Subject :ResearchonLightSystem andImprintProcessof ImprintLithography Speciality:MechanicalEngineering Name :WangLiyong (Signature)丛 Instructor :LiDichen (Signature) LuFenglan Abstract ThesoftimprintlithographybasedonmoldfabricationandUV-curable replicationprocesshasbeenstudiedinthisthesis.Thisprocesscanprovidea new method for MEM S and IC fabrication.The low-cost silicone and UV-curablematerialsareusedinsoftimprintlithographytorealizepattern transferandhencethemanufacturingandoperatingcostofICequipmentare reduced significantly.Theoreticalresearch and experimentshavebeen performedonsomekeytechniques,suchaslightingsystem,thematch behaviourbetweenlightsourceandresist,micro-moldfabrication,imprintand demould. Thematchbetweenlightsourceandresistisoneofthecriticalfactors, whichwillgreatlyinfluencethereplicationquality.Thelightsource,mold materials,supportingma