内应力对金属薄膜生长织构的影响-金属学报.PDF

第 38卷 第 8期 金 属 学 级 Vo1．38 No．8 2002年 8月 795— 798页 ACTA M ETALLURGICA SINICA Aug．2002 PP．795-798 内应力对金属薄膜生长织构的影响 周 浪 ，) 周耐根 ) 朱圣龙 ) 1)南昌大学化学与材料科学学院，南昌 330047 2)中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室，沈阳 110016 摘 要 基于FS型原子镶嵌势 (EAM 势)用分子动力学模拟了金属多晶薄膜的原子沉积生长过程，通过预设恒定应变在薄膜 生长过程中引入了单轴压应力，模拟研究了应力对呈丝织构的多晶薄膜中晶粒沿丝轴旋转取 向择优的影响．模拟结果表 明，在 固定 压应变条件下，最密排方向偏离压应力轴的晶粒较为优先生长发展；在生长过程中，取向择优的晶粒从沉积表面开始逐渐扩张吞并 相邻晶粒．模拟结果还显示，这种生长织构的发展随沉积膜厚增加有显著的临界特征；在织构发展过程中被吞并的晶粒局部出现孪 晶，继而转换为择优生长晶粒的结构；在被吞并的品粒最终消失处将会留下失配位错 ． 关键词 薄膜，织构，分子动力学 中图法分类号 0484．1 文献标识码 A 文章编号 0412—1961(2002)08—0795—04 EFFECT oF INTERN AL STRESS oN G RoW TH TEXTURE oF M ErALLIC TH IN FILM S ZHoU Lang1 zHOU Nniqen ZHU shenglong 1)SchoolofChemistryandMaterialsScience，NanchangUniversity，Nanchang330047 2)StateKeyLaboratoryforCorrosionandProtection，InstituteofMetalResearch，TheChineseAcademy ofSciences，Shenyang 110016 Correspondent：zHoULang．professor,Tel：(o791)8304538lFax：(o791)88o4441， E—mail：Izhou@ncu．edu．cn SupportedbytheSeniorVisitorProgram ofTheChineseAcademyofSciences M anuscriptreceived 2001—11-06，in revised ofrm 2002—03—27 ABSTRACT M oleculardynam icssimulationsofdepositionalgrowth processesofpolycrystalline metalthinfilmshavebeencarriedout，inwhichanFStypeembeddedatom method(EAM)potential wasused．W ith a presetfixed strain．a uniaxialinternalcompressive stresswasintroduced during thefilm growth．andtheeffIectofinternalstresson developmentofrgowth textureofthin filmswas simulated．Theresultsshow thatinternalstressdoessignificantly affecttheorientation preference ofthe grainsin films． The stress—induced preferentialdevelopment ofthe favored rgain starts at thedeposition su