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T1相(A1
2CuLi)在AI-Cu-Ll合金局部腐蚀中
作用机制的模拟研究
李劲风‘,郑子樵,陈文敬,任文迭,赵旭山
(中南大学材料科学与T程学院,长沙410083)
摘要: 为阐明A1.Li合金中与T1相相关的局部腐蚀机理,采用熔铸法制各了T1模拟相,检测,Tl相及TI..a(AI)
偶合体系在NaCl溶液中的电化学行为,同时通过u(AI)与Tl模拟相热轧复合制备了含Tl相的模拟铝台金并对jl腐
蚀形貌进行r观察。研究发现,初期T1相电位较让(A1)负,在T1..a(AI)偶台体系中作为阳檄;然而腐蚀过程中,T1
相中“优先溶解而产生cu元素的富集,导致TI相电位正移而转变为阴极,从而促使u(A1)发生阳极溶解。宴断AL.Li
台金中,由于T1相电位负,首先发生Tl相的腐蚀;而后Tl相转变为阴极,模拟铝台盒中Tl相边缘旺fAl)基体产生
腐蚀.上述结果表叫,A1.Li台金中与Tl相相关的局部腐蚀是由Tl相及其边缘铝基体的交替阳极溶解而导致的。
关键词: T1相(A12CuLi);AI-Cu-Li合金;作用机制;模拟
1前言
A1.LI合金具有低密度、高弹性模鼍及高比强度的优点,将广泛用于航空航天结构件。然而,潮
漫环境中,A1.Li合金容易发生局部腐蚀,因此,研究其局部腐蚀行为具有重要意义。关于A1-Li合
金的腐蚀行为已经进行过大量研究【1.4】.然而析出相在Al-乙i合金局部腐蚀中的作用机制仍存在不
et
同观点。如A1-I。i台金中与T1相相关的局部腐蚀机制,存在两种对立观点。Buchheit
a115,6】限据
模拟Tl相在NaCI溶液中的电化学行为,认为2090A1.Li合金晶间腐蚀或亚晶问腐蚀是山Tl相的
el
阳极溶解造成的。然而,Kumaial[7]根据2090AI.Li合金的腐蚀形貌,提出其晶间腐蚀是沿晶界
无沉淀带的阳极溶解所导致的。
Tl相是2xxx系Al-Li合金如2090、2195A1.Li合金主要强化相,通常优先于位错、亚晶界及晶
界优先析出。Tl相析出过程中,将沿晶界及亚晶界形成一贫cu、Li的无沉淀带【8,9】。为阐明Tl相
在A1.cu.Li合金局部腐蚀中的作用机制,本文通过熔铸方法制备了块状Tl模拟相,研究了T相及
相的模拟铝合金,对其在NaCl溶液中的腐蚀形貌进行了观察。
2实验方法
2.1块状T1模拟相的制备
h退火后采用x.ray衍射(xRD)检测其相组成。合金无沉淀带或基体含合金元素很少,则采用a(AJ)
进行模拟。
电化学检测样品从q(A1)基体及块状模拟Tl相取样后,一端与Cu导线连接.除工作面外,其余
部分用环氧树脂密封,而后工作面依次经砂纸打磨、金刚石研磨膏抛光、丙酮除油、蒸馏水清洗后
在空气中自然干燥。腐蚀介质为分析纯Nacl及蒸馏水配制的中性3.5%NaCI溶液。
2.2Tlm(^I)的偶合行为及腐蚀形貌
采用三电极体系于SI1287Electrochemical
及Tl相为工作电极,对电极及参比电极分别为铂电极及饱和甘‘汞电极(scE)。测量时,先进行阴极
极化,而后进行阳极极化,扫描速率为1mWs。
I薹|I
TI-n(AI)偶合示意图
cm2,
将模拟T1相与叫A1)按图l所示方式在NaCI溶液中进行偶合,偶合面积分别为TI/0.07
u.(Af)m.13 1287
em2。偶合过程中,进行TI-a(A0偶合电流的测试。10天后,偶合结束,采用SI
Electrochemical
Interface分别测量偶合体T1及a(A1)的开路电位。同时,采用KYKY2800SEM观察
偶合体伐(A1)和模拟Tl相的腐蚀形貌。
2
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