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通信光纤常见问题 Q-1、G.655和G.652光纤都适用于长距离传输，他们的区别主要在哪几个方面？ 　　G.652是普通单模光纤，G.655为非零色散位移单模光纤。 　　通常G.652单模光纤在C波段1530～1565nm和L波段1565～1625nm的色散系数较大，一般为17～22ps／nm·km。在开通高速率系统如10Gb/s和40Gb/s及基于单通路高速率的WDM系统时，需要采用色散补偿技术来进行色散补偿。 　　G.655光纤的基本设计思想是在1550nm窗口工作波长区具有合理的较低色散，同时，在其传输窗口的色散值又保持非零，低色散可以简化10Gb/s长距离传输的色散补偿，而非零色散也足以抑制非线性效应的影响，适宜开通密集波分复用系统。 　　对于光纤的选型，需进一步考虑技术优势、光纤成本及色散补偿成本等方面的综合因素，以便根据不同的应用选用最佳的光纤种类。 　　Q-2、什么叫光纤的宏弯和微弯？测试方法所参考的技术标准是什么？ 　　宏弯损耗是指曲率半径比光纤直径大的多的弯曲引起的附加损耗，主要原因有：路由转弯和敷设中的弯曲；光纤光缆的各种预留造成的弯曲；接头盒中光纤的盘留、机房及设备内尾纤的盘绕等。宏弯损耗的标准测试方法可参考GB/T 15972.47或IEC 60793-1-47。 　　微弯损耗是指曲率半径可以与光纤的横截面尺寸相比拟的弯曲引起的附加损耗，主要原因有：光纤成缆时，支承表面微小的不规则引起各部分应力不均匀而形成的随机性微弯；纤芯与包层的分界面不光滑形成的微弯；光缆敷设时，各处张力不均匀而形成的微弯；光纤受到的侧压力不均匀而形成的微弯；光纤遇到环境温度变化所形成的微弯。微弯损耗的标准测试方法可参考IEC TR 62221，常用的是其中方法B和方法D，即固定直径圆筒法和编织篮法。 　　Q-3、什么是光纤的模场直径和有效面积？它对传输系统有什么影响？ 　　模场是指光纤中的基模LP01模的电场在空间的强度分布，它并不完全集中在纤芯中，而是有相当部分的能量在包层中传输，所以不能用纤芯的几何尺寸作为单模光纤的传输特性参数，而是用模场直径MFD（Mode Field Diameter）来描述单模光纤中光能分布（下图为模场直径示意图）。模场直径是单模光纤的重要参数，由它可以导出等效阶跃光纤的参数，估算单模光纤的连接损耗和弯曲损耗等。 　　光纤的有效面积与模场直径的物理意义相同，通过模场直径可以利用圆面积公式计算出光纤的有效面积。 　　光纤的模场直径越小，光纤横截面的能量密度就越大。当通过光纤的能量密度过大时，会引起光纤的非线性效应，造成光纤通信系统的光信噪比降低，影响系统性能。 　　光纤的非线性效应与有效面积息息相关，大的有效面积有利于减小光纤的非线性效应，但并非有效面积越大越好。首先，有效面积的提高必然带来色散斜率的增加，大的色散斜率不利于色散管理；其次，光纤的非线性效应也有其有利的方面：拉曼放大正是利用了光纤的非线性效应，过大的有效面积会降低拉曼放大的泵浦效率。 　　Q-4、什么是光纤的氢老化？对光纤质量有何影响？ 　　在一定的温度环境下，光缆中的有机材料如含氢的填充油膏、光纤中的涂层材料等会释放出氢气；当光缆的护套损坏后有水渗入时，金属元件如铝带、钢带等会发生电化学腐蚀而不断释放出氢气，氢气会扩散到光纤中，引起光纤衰减增加，这就是所谓的氢老化现象。 　　氢气导致光纤损耗增加的机理大致可分为两大类：一类是由于氢气分子扩散到二氧化硅网络结构中，由分子振动而引起的衰减增加，这种氢损是可逆的，即随着光纤中氢气的逸出，衰减会逐渐减小，甚至可能恢复到以前的水平，这一类称为吸收氢损或间隙氢损； 　　另一类是由于扩散到光纤中的氢分子与二氧化硅中的缺陷结构发生化学反应，形成特定的化学键，这些化学键的本征振动或高次振动模会在一些特征波长上造成衰减增加，这种氢损是不可逆的，称为永久氢损。由氢氧根离子引起的光纤衰减增加取决于光纤中掺杂剂的类型与浓度、氢分压、温度和时间等。 　　下图给出了GeO2掺杂石英光纤氢老化的典型吸收谱。从图中可以看出，氢老化现象会使得E波段和L波段一些特征波长处衰减增加（1383nm和1530nm），因而会对于光纤传输造成影响。 　　掺GeO2石英光纤氢气处理后引起的典型附加损耗图 　　Q-5、如何测试光纤的涂敷层剥离力？ 　　光纤的涂覆层对保护光纤的机械强度有非常重要的作用。在光纤光缆的测试和工程施工中，需要剥除光纤的涂覆层进行操作，因此，光纤的涂覆层应该具有可剥性。涂覆层的剥离力不宜太小也不宜太大。一般情况下，涂覆层平均剥离力的典型值在1.0N~2.0N之间。 　　光纤的剥离力测试是利用立式拉力机提供受试光纤和剥离工具之间的相对运动来确定沿光纤纵向机械剥除涂覆层所需的力。拉伸装置应能够提供恒定的