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溶胶一凝胶法制备((PLZT)铁电薄膜
及掺杂对介电性能的影响
罗 民 曹传宝 汪 浩 朱鹤荪
(北京理工大学材料科学研究中心,北京,100081)
摘 要 用改进的Sol-Get法在N型(110)Si片上制 10H,O,Zro (NO,),为 原 料,乙二醇 独 甲醚
备出表面平整,无龟裂的PLZT铁电薄膜.研究了影 CH30CzH4OH为溶剂,参照PLZT室温相图选取
响薄膜显微结构与电学性能的工艺参数,从中优化出 PUT组成为(X/Y/Z)=(8/60/40)。首先按计量比
最佳的工艺参数。研究表明溶胶液中乙鱿丙酮分子是 将Pb(CH,000),·3H20和La(NO,):加热溶解于
烯醉式结构,而且是通过它的一个氧原子以单齿配位 溶剂CH,OC,H,OH中,Ti(OC,H,)‘和乙酞丙酮以及
的方式与金属成健。它能较好地控制溶胶中的水解。 Zro(NO,):和CH,OC2H,OH分别以(1,)I混合,然
铁电薄膜在硅片上以多晶形态存在,是典型的钙41矿 后超声棍合为一体 将后者加人到Fb,L氏溶液中,调
型结构,有明显的择优取向。掺杂La,Zr可以提高材 整浓度至。.5m ,加人NHO3 调节pH值为 5-6,得
料的介电常数,同时增加介电损耗。 到透明无沉淀的前体溶液,溶液利用原料中结晶水水
关键词 PUT铁电薄膜 Sot-Gel法 介电常数 解形成溶胶,在乙酞丙酮的控制下进行得很缓慢,在
密封的容器中可稳定保存数月之久研究了不同时间
1 引 言 段溶胶和凝胶的红外光谱,借以了解其结构变化。用
热重一差热分析TG-DTA研究了干凝胶粉的热失重
Sol-Get工艺是 70年代活跃起来的一种独特的 情况。
湿化学制备方法,用此工艺制备的陶瓷材料具有纯度 硅片的清洗采用标准的半导体片清洗程序。涂膜
高、均匀度好、反应过程易于控制等优点,因而在制备 在KW-4A型匀胶机 上进行,匀胶时基片转速为
各种类型(如陶瓷、玻璃)和各种形态(如颗粒、薄膜) 4500r/min,匀胶时问为20.。在硅碳棒炉中热处理,
的材料中得到了广泛的应用n1钻钦酸铅斓CPb,-. 薄膜在400℃千燥0.5h,涂膜干燥过程反复进行,直
La,(Zrji,),_,/,0,](简称PLZT)是一种重要的铁电 到达到所需的膜厚,然后在70WC退火 3h,使薄膜晶
陶瓷,PLZT的组成可在很宽的范围内变化,从而具 化,用XRD检查结晶情况,用SEM观察其形貌.
有压电、铁电、热释电和电光等不同的性能[z1。这些材
2.2 电学性能的vilif
料在光电子技术和其它高新技术中有重要的或潜在
的应用.例如,铁电错钦酸铅 (PZT)或错钦酸铅悯 在薄膜表面涂夜直径 2.5mm 的银电极,构成
(PLZT)薄膜在高容量电容器、非挥发性场效应管 Ag/铁电薄膜/Si结构。用HP4192A低频阻抗分析仪
(FETS)以及全内反光开关(TIR),光波导,声表面波 测量室温介电性能。测试信号频率 1KHz,场强 。.
(SAW)器件,红外探测器,二次谐波发生器(SHG)和 1KV/cm。用Sawyer-Tower线路测电滞回线,采用
四波混频(FWM)中有重要应用[37。本文报道了Sol- 50Ha正弦波信号,最大场强150KV/cma
Get法在硅片上制备无龟裂的,具有优良铁电性能的
3 实验结果与分析
PLZT薄膜和掺杂Zr,La元素对铁电薄膜介电性能
的影响。 3.1 主要工艺参数的控制
2 实验方法
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