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纯铝材电解液微弧氮化工艺探讨孙奉娄，戴茂飞(中南民族大学等离子体研究所，湖北武汉430074)［摘要］电解液微弧氮化工艺简单，过去未见用其制备AlN膜的报道。采用电解液微弧氮化工艺在纯铝基片上制备了AlN陶瓷膜，利用正交试验优化工艺，研究了最优工艺制备的膜层的物相、形貌，并探讨了占空比、放电频率对膜层硬度、绝缘电阻、耐压值的影响。结果表明:正交试验优化的工艺为100mL超纯水中CO(NH2)235．0g，EDTA-2Na3．0g，放电频率1．0kHz，占空比20%;各因素的影响由主到次依次为CO(NH2)2浓度、占空比、放电频率、EDTA-2Na浓度;最优工艺制备的陶瓷膜由多晶AlN组成，膜层致密;选择适当的占空比和放电频率有利于改善AlN陶瓷膜的性能。［关键词］电解液微弧氮化;［中图分类号］TG174．44AlN陶瓷膜;纯铝材;［文献标识码］A电解液浓度;放电参数;性能［文章编号］1001－1560(2011)09－0012－03前言次用600，800，1000号水砂纸打磨去除表面的氧化膜，经丙酮、超纯水超声清洗晾干后备用。用PN-Ⅲ型直流脉冲电解液微弧放电装置制膜，以不锈钢为阴极，纯铝试样为阳极，用水冷系统和搅拌系统对电解液降温使其温度不超过50℃。试验开始时采用恒流模式，起弧放电后改用恒压模式，调节电压控制旋钮到所需值进行稳定微弧放电直至放电结束。0氮化铝陶瓷因具有优良的力学