自耦合射流强化掺混的数值研究.pdf

中国工程热物理学会 传热传质学 学术会议论文 编号：093059 自耦合射流强化掺混的数值研究 谭晓茗 聂萌萌 张靖周 单勇 南京航空航天大学能源与动力学院 南京 210016 （Tel：0252605-MAIL:Ecatam@） 摘要：针对同向两股气流掺混的某一特定物理模型，对自耦合射流作用下的气流掺混过程进行了数值模拟研究。 与未施加自耦合射流激励的掺混过程相比，自耦合射流周期性的吹/吸诱导流场内产生复杂的大尺度涡系结构， 使得同向两股气流形成对流型混合，有效缩减了主流核心区长度；相对于在燃烧室单侧放置激励器的方式，双侧 自耦合射流激励时温度均匀分布线较靠前；同是在燃烧室两侧放置激励器，自耦合射流轴向位置靠前时高温核心 区小，随着激励器轴向位置的后移，高温核心区被逐渐拉长。 关键词: 自耦合射流；流动控制；强化掺混；数值模拟 0前言 近年来，随着在材料、电子和微型传感器等方面进展的加快和人们对三维非定常流动机 [1] 理了解的加深，产生了以微机电系统(MEMS)技术为基础 ，将气动热力学、材料、结构和控 制多个学科结合起来的微观自适应流动控制技术 —— 一种先进的主动流动控制技术。它可 以应用于航空航天器、舰船和其他流体机械。自耦合射流作为主动流动控制中一种潜在的方 [2] 法，已经引起了广泛的关注 。 自耦合射流(synthetic jet)技术是一种全新的流动控制技术，其基本原理是利用激励器 腔体底面薄膜振动驱动腔外的流体不断地从喷口吸入和吹出，在喷口处形成一系列向外扩展 的非定常涡环，最终形成一股持续的射流。由于自耦合射流无需附加额外的流体输入，结构 简单，操作方便，因此自耦合射流技术在流场调节、强化传热、增强混合等方面具有广阔的 [3-5] 应用前景 。近年来，国内外研究人员针对自耦合射流强化气流混合问题开展了大量的研 [6-10] 究工作 ，获得了其激励机理和效果的认识。 本文针对一个典型的同向冷、热两股气流掺混物理模型，对自耦合射流激励下的气流掺 混过程进行数值模拟，以进一步揭示自耦合射流激励参数对掺混的影响。 图1物理模型简图 1.计算模型与计算方法 1.1物理模型 本文根据文献[11]的燃烧室实验模型简化出同向冷、热两股气流掺混物理模型，如图1 所示，由自耦合射流喷口、激励器腔体和混合段三部分组成。混合段主流和二次流设定为平 基金项目：高等学校博士学科点专项科研基金资助项目 （20070287040、200802871017） 行进气，长度L=450mm，高度H=75mm；主流入口高度为15mm，在混合段进气端采用非对称布 置，其上下边距离混合段顶侧和底侧壁面的距离分别为10mm和50mm。自耦合射流激励器布 置在混合段壁面的两侧，腔体宽度20mm、高度5mm；自耦合射流喷口宽度为2mm、厚度0.5mm， 喷口中心线距混合段进口的轴向距离设定为30mm。两侧的自耦合射流激励器膜片振动同向， 无相位差。 1.2控制方程和边界条件 假定混合段内部和自耦合射流腔体内的流动为不可压缩流动，采用二维非稳定 RNG?-e 湍流模型，近壁区采用壁面函数法，其控制方程包括 u 0 (1) u 2 (2) r ru u p (m m ) u t t rc T rc u T (l l ) 2 T