聚酰亚胺薄膜的低温等离子体表面改性研讨.pdfVIP

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中田电机工程学会高压专业委员会高电压新技术学组2006年学术年会 聚酰亚胺薄膜的低温等离子体表面改性研究 李斌,刘明海,尹婷,戴玲,林福昌,胡希伟 (华中科技大学电气与电子.Y-程学院,武汉430074) SurfaceTreatmentof films Plasma PolyimidebyLow—temperature LI Xiwei Bin,LIUMinghai,Y1NTing,DAILing,LINFuchang,HU ofElectricalandElectronic ofScienceand (College Engineering,HuazhongUniversity 。430074) Abstract:The of chemistry low—temperatureplasma料表面~20nm厚的性能,很难大幅度提高材料的介 property is recentstatusof introduced;the low—temperatureplasma电常数(介电常数一般由材料的整体性质所决定), ininsulationmaterial andsurface application preparation 但可以明显提高绝缘材料的击穿场强,所以表面改 viewedfrom treatmentis summarized.As breakdown 性提高介电性能主要以提高材料的击穿场强为主。 mechanismofinsulation surface an material,thepropertyplays rolein thedielectric of 2 低温等离子体及其应用 important improving properties istreatedlow insulation.Polyimideby pressurecapacitance 2.1低温等离子体 resultsshowwithin30secondthat couplingplasma(ccP),the 低温等离子体也称为非平衡态等离子体i1】,本 ofthe of the treatmenttimeis,the breakdown longer bigger 体的粒子和质量大的离子处在室温,而部分电离的 asthetime thebreakdown strengthis,but keepsincreasing reducesandreachessaturationasthetimeincreases. 电子的温度可达到几个eV,所以它整体对外表现出 strength 很低的温度,在材料处理过程中不会对材料产生高 material; Keywords:low-temperatureplasma;insulation 温损坏;而高能的电子在与中性粒子发生碰撞(非

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