基片温度对磁控溅射法制备TiO2TiNTiO2阳光控制镀膜玻璃光学性能的影响.pdfVIP

基片温度对磁控溅射法制备Ti021TiNITiO:阳光控制 镀膜玻璃光学性能的影响， 赵青南,2‘，赵修建’ (1武汉理工大学硅酸盐材料工程教育部盆点实验室，湖北武汉430070; 2.武汉理工大学材料研究与侧试中心XPS室.湖北武汉430070) 摘 共:用三犯立流反应劝搜城劫仪，通过改文玻 瑞基片沮度 (350一500C).在浮法玻瑞上被膜，制 2 试 验 备了玻瑞M02T1NfT02阳充拉刹俊琪玻瑞.用 Boclm2anW 5240光错仪和X扮戏光电干能讲仪 2.】试样制备 (XPS)对试样的光语特性和琪表面姐成与结构进 用三靶直流反应磁控讯射仪。通过分别设t基 行了分析.始果表明。当基片注度达 5000C时，试 片沮度为 360*C,4001C,450*C和 500*C，在浮法 样的红外反封率下降.在软气氛下提高基片滋度至 玻瑞上制备T-102/LNMO,阳光控制膜 。纯钦 (99%) 4000C,TIN薄琪上开始有Ti凡O,层生成·讨论了 平面靶，靶直径为56min,旅射功率为20DW,戮射 影响Ti01/fiNITi01阳光拉创校琪玻瑞光学性能的原 室本底真空为2.0-10Pa.橄射riN膜时.旅射室工 因. 作其空为0.65pa,其中气压比N2Ar为0.2-0.3,腆 关健询:TIN茜阳光控侧健旅玻玻.反应磁控翻射: 厚度控制在30nm左右·戮射”02腆时t翻射室工 甚片通度:光学性能:XPS 作真空为O.SPa，其中气压比02A:r为。.3,眺厚度也 控i6+J在30nm左右.单纯TIN膜面在上述设I的墓 1 引 言 片沮度下通入派射 11时的氛气流皿，考察11N膜面 的组成与结构的变化，玻瑞基片与靶的距离为 窗玻瑞是室内节能的薄弱环节.在寒冷的季节， 15mm.在派射艘腆之前，玻瑞经过适当的清洗并千 建筑物内部的热f通过窗玻瑞教发出;在炎热的a 燥备用。 季，太阳光的辐射热又进入室内。二者使空调的负 2.2 到试 荷加大，浪费能派.阳光控创被腆玻瑞既有良好的 用BeckmanW 5240光谱仪洲试傲膜试样的光 可见光透过率.又能反射阳光中的红外线.在炎热 谱性能。用VG.ESCALABMKIIX射线光电子能谱 的耳季可达到降低空调费用的目的川.侧备阳光控制 (XPS)研究被腆试样组成与结构随荃片沮度的变 被腆玻瑞的方法有很多，其中以直流反应磁控派射 化，人伙。射线作傲发探 (1486.6cV):扩徽泵的油 法制备的样品综合指标级好a1,过去一般采用银作为 污染破 (C1s-284.6eV)作荷电校正。 功酩膜来反射红外线，但是。由于银易被大气抓化. 由此降低红外反射率。以及价格较高，人们现在开 3结果与讨论 始用过渡元素的抓化物来取代银a,.其中，由于TNI 具有良好的物理、化学税定性，日益受到人们的， 3.1光讼性旅 视IwI, 圈1是玻瑞IIIG刀NIIG,阳光控制艘眺玻瑞的 本文用三艳直流反应磁控戮射法在浮法玻瑞上 光谱曲线。从圈 】可见， 在可见光范围内 制备了UN羞嫂膜玻瑞，研究了基片沮度对薄膜红 (380-780nm)，随.基片沮度的升高，试样的透光 外反射率的影晌.用X射线光电子能谱研究了荃片 率有以下变化 :5000C墓片沮度的试样的透光率最 温度为3500C,4000C.4500C和5000C时，TN薄 高，达62%左右;其次是3500C签片沮度试样的透 膜组成与结构随沮度和氛气氛的变化. 光串较高，4000C羞片盔度试样的透光率最低 ;4500C