磁控溅射制备锌薄膜的工艺与分析研究.pdfVIP

刘延辉等：磁控溅射制备锌薄膜的工艺与分析 磁控溅射制备锌薄膜的工艺与分析。 刘延辉，岑少易，周细应 (上海工程技术大学材料工程学院。上海201620) 摘要： 用扫描探针分析技术，研究了直流磁控溅射 的间距为78mm。溅射气氛为高纯氩。具体溅射实验 工艺参数对锌薄膜形态与生长的影响。结果表明，随 方案和工艺参数如表1所示。样品MSD-I无循环水 着衬底温度和直流溅射功率的降低，锌薄膜表面形成 冷却，样品位温度由热电偶测得，其余样品位用15～ 了细密的锌岛；当溅射氢气压发生变化时，锌薄膜表面 20℃循环水冷却。 锌岛的尺寸没有明显变化，但表面粗糙度和垂直衬底 最高落差随着氩气压的升高而升高。 关键词：磁控溅射；薄膜；原子探针扫描电镜；锌 式分析直流磁控溅射沉积锌薄膜的表面形态，扫描范 中图分类号： TN304．93 文献标识码：A 围10／umX10肛m。 文章编号：1001-9731(2008)增刊-0369—03表l 直流磁控溅射制备锌薄膜的工艺参数 Table1Process ofZnfilm byDC parameter prepared 1 引 言 magnetron sputtering 受纳米氧化锌特异性能和潜在应用价值的吸引， 样品 村底 村底 溅射功 藏射 溅射时 氩气压 背景 许多技术用于制备氧化锌纳米粉体和薄膜材料，如化 珐号 材质 温度 率(W)方式 问(rain)(Pa) 真空度 MSD-1 85—95℃80 l 学气相沉积法，溶胶一凝胶，水热合成，喷雾热分解，分 透明玻片 直流 lO MSD2透明玻片 循环水岭 80 直流 10 1 子束外延，脉冲激光沉积，真空电弧沉积和磁控溅射 MSD3 80 10 0．2 透明豉片 循环水冷 直流 1．1X10“Pa 等[1~‘]。首先制备出纳米锌粉或薄膜，然后再进行热 MSD-4透明玻片 循环水岭 80 主流 10 2 MSD5 40 l 氧化，也是获得氧化锌纳米粉体或者薄膜的一种技术 透明玻片 循环水冷 直流 lO 路线。 3结果与讨论 原子力显微镜(AFM)的工作原理是将一个对微 弱力极敏感的微悬臂一端固定，另一端为自由端，呈微 直流磁控溅射沉积得到的锌薄膜，用AJ-llla型原 小针尖状与样品表面接触，以针尖与样品表面原子间 子探针扫描电镜作表面形态分析，结果如图1所示。 在图1中，样品MSD-1表面的锌岛最粗大，样品MS分 的微弱作用力(10_8～10-6N)作为反馈信号，维持针 尖与样品间作用力的恒定，并使带有针尖的微悬臂对 应于针尖与样品表面原子间作用力的等位面而在垂直 面的锌岛没有明显差异。 于样品的表面方向起伏运动，通过光学和隧道电流检 测，测得微悬臂对应于扫描各点的位置变化，最终获得