第四章+聚焦离子束的应用-2016.pdfVIP

第四章 聚焦离子束的应用 聚焦离子束是一种用途广泛的微纳米加工工具。 主要内容 1. 简介 2. 液态金属离子源 3. 聚焦离子束系统 4. 离子束在固体材料中的散射 5. 离子束加工 6. 聚焦离子束曝光 （一）简介 聚焦离子束（focused ion beam, FIB ）与聚焦电子束的本质是一样的， 但是两者又有很大的不同。主要差别在于它们的质量，最轻的离子 （如氢离子）也比电子重1000多倍。 离子束当然用来曝光，但不仅只用来曝光，还可以对材料进行溅射和 沉积，因此聚焦离子束是一种更广泛的加工工具。 自1910年Thomson发明了气体放电型离子源后，离子束技术主要应用 于物质分析、同位素分离和材料改性。 早期的离子源是等离子体放电式的，属大面积离子源。真正的聚焦离 子源始于液态金属离子源的出现。 液态金属离子源产生的离子具有高亮度、小尺寸的特点，是目前所 有聚焦离子束系统的离子源。液态金属离子源加上先进的离子光学 系统，可以获得只有5nm的最细离子束。一方面，离子束本身可以 对材料表面剥离加工；另一方面，以不同的液态金属作为源材料可 以将不同的元素注入材料之中，起到对衬底材料掺杂的作用。 聚焦离子束与化学气