ZnS光电薄膜的制备及掺杂对其性能的影响研究.pdfVIP

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  • 2018-01-10 发布于广东
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ZnS光电薄膜的制备及掺杂对其性能的影响研究.pdf

摘要 摘要 本文采用真空蒸发法在石英玻璃上沉积了ZnS薄膜,并利用原子力显微镜 (AFM)和扫描电子显微镜(SEM)对制备的薄膜进行了表面结构和断面情况的 观测,同时测量了薄膜的吸收透射谱和光致发光谱。观测结果显示,实验制备的 ZnS薄膜均匀致密,颗粒细小,质量良好,同时可以根据测量的数据得出制备的薄 膜为六方(纤锌矿)结构的n.ZnS。 通过对在玻璃衬底上沉积的ZnS薄膜进行掺杂,掺杂元素为Na和Li,获得 ZnS:Na和ZnS:Li薄膜,然后在相同条件下对这两种掺杂后的薄膜进行了表面结构 的观测以及吸收谱和光致发光谱的测量。结果表明两者在可见光范围内的吸收有 较明显的差异,发光效率差别很大。本文对产生这种差异的原因进行了多方面的 分析,得到了很多有意义的结论,这对于ZnS的掺杂工艺是一种很有价值的探讨 和补充。 薄膜制备后期的热处理是薄膜处理中的一种很常用的方式,它在薄膜结构和性 能的改善方面有着极其重要的作用。本文在氩气环境中对制备的ZnS薄膜进行了 退火处理,退火的方式是每100℃退火一次,退火时间为1h,每次退火完毕后, 采用SEM对薄膜表面、断面情况进行观测,获得退火后薄膜表面的微结构

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