超平整热蒸镀金膜的制备和形貌结构表征研究.pdf

弟六届奎一表面工程学术童截 兰州 2005年8月 超平整热蒸镀金膜的制备和形貌结构表征‘ 庞重军1卫3林义民1·3严洁1 (1．中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室甘肃兰州730000； 2．茂名学院广东茂名525000；3．中国科学院研究生院北京100039) 摘要：本文以原子级平整的云母和硅片作表面模板，用PVD热蒸镀的办法分别沉积上1．3nm和 5．0nm的金膜．以云母和硅片为模板沉积的1．3nm厚金膜的形貌有明显差异：前者表现为直径为 ～80nm的卵石状结构，而后者呈现出直径为一50nm的较为均匀的团簇；两者均为非晶膜，其均方 根粗糙度分别为0．12 nm和0．07nm．云母上沉积的5m厚金膜表现为紧密堆栈的团簇形貌，团簇 直径为一20rim；用谢乐方程估算的晶粒尺寸为～5 nm,-与薄膜厚度相当．角分辨XPS全诺扫描结果表 明所有样品的金膜覆盖率都较高，裸露区域最大线宽不大于10sin． 关键词：金膜，制备，表征，超平整，热蒸镀 金、铂等金属由于具有良好的导电性、化学惰性以及易于与硫醇等分子端基化学键合而进行分 子组装、其金属薄膜易于加工制备等优点，可用于制备以分子组装为基础的分子电子器件“。】。制 备表面粗糙度小于lnm的超光滑表面金膜的最常用方法之一是PVD法14]。为了获得原子级平整的 金基底，改变基底、温度等制备条件[1,2,51来制备直径大至数百纳米的单晶平面是最常用方法之一。 为获得面积更大、制备成本更低廉、而表面粗糙度又可以接受的金属薄膜，近来又发展了一种剥模 (Template 的lOOnm左右的金属膜剥下来，从而获得面积达数十微米、平均粗糙度小于O．5am的金属膜表面， 并应用于分子组装州和吸附动力学研究”】。但该方法的缺点之一是容易产生数层云母仍覆盖在目标 薄膜上的情况9J。显然，该方法也不适用于更大面积或带弯曲表面的复杂形状表面的超光滑表面的 制备。但在制造特殊用途的微小机电器件的过程中，通过表面工程改性的办法获得特殊表面性质的 情况又经常会碰到；因此很有必要探索一种价格低廉、工艺简易、不受被加工工件的面积和形状限 制、而又能达到原子级表面光洁度的金属薄膜的制备方法。 1实验部分 nlln 所用125 P(100)型(掺硼)直拉硅抛光片(平整度TIR1．2 Ism)为北京有研半导体材 料股份有限公司生产。先将硅片按需切成10—20Imn见方的小片，丙酮和水清洗晾干后用Piranha 水冼净、氮气吹干，氮气保护下待用。 薄膜厚度为1．8nm左右。将印度白云母(XPS检测无F等杂元素)小心剪成15mm左右的小块， 用双面胶固定于防止变形的硅片上，撕开表层后立即与其它清洗好的硅片—起放人电子束沉积，真 空镀膜机(沈阳中科仪技术发展有限责任公司，真空度为4x10。4Pa)中镀膜(99．99％黄金，钼舟， 加．2nm／s，石英共振测厚仪监控镀膜过程)。 镀好的样品放入洁净培养皿或干净样品管中待检测。用原子力显微镜(AFM，SPM-9500，日 本岛津公司，奥林巴斯si3N。探针，针尖曲率半径20nm)表征金膜的表面形貌，用x射线衍射仪 ·基垒项目；国家自然科学基金创新群体项目；中国科学院“百人计划”项目 作者简介：庞重军，男(1971一)讲师，在读博士 第六届奎目表面工程学术_奢试 兰州 2006年8月 (XRD，XPert PRO，荷兰帕纳科公司)的薄膜附件以STD扫描方式对金膜进行物相分析，用角 分辨X_光电子能谱仪(XPS，PHI-5702，美国物理电子公司，真空度1 x104Pa)对金膜进行角分辨 深度分析。XPS的样品台用I％HF水溶液氢化处理硅片的x光电子衍射(XPD)法校正，角分辨 精度为±1。。 2．结果与讨论 实验用的云母和硅片底材都是原子级平整的基底。AFM扫描结果表明，两种基底在500x500 nm2扫描面积范围的均方根粗糙度Rms均为o．0