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全息干涉法测金属材料的杨氏模量

全息干涉法测金属材料的杨氏模量 光的波动性被人们认识之后,随之发展起来的干涉计量技术就被用来精确测量物体表面的光洁度, 微小角度和气体折射率等。但其只适用于形状比较简单且高度抛光的平面。而由全息照相发展起来的全 息干涉计量技术降低了对被测表面的苛刻要求,能对粗糙表面的位移、变形等物理量进行测量。本实验 用二次曝光全息干涉法测量金属材料的杨氏模量。 实验目的 1. 了解全息干涉法测物体微小位移和杨氏模量的原理和方法。 2 .用两次曝光全息干涉法测量铝板的杨氏模量。 实验原理 两次曝光全息干涉技术是在一张全息干版上对物体的二种不同的状态进行记录。利用图 1 所示光 O x( y, ) 路,在被测物体未加载前,让物光 和参考光 对全息干版作第一次曝光,在物体加载后, 1 R (x ,y ) O x( y, ) 物光 和参考光 对干版作第二次曝光。经显影定影处理后,该干版就成为一张双曝光全 2 R (x ,y ) 息干涉图。因全息照相可把物体漫反射的光波波阵面记录下来,故通过双曝光全息法,物体在位移前后 两种不同的光波波阵面可被记录在同一张全息底片上,物体在两次曝光期间的位移变化就可被永久记录 保存下来。当两次曝光全息图用激光再现时,再现出来的两个光波会因两次曝光期间物体的位移(或形 变)造成的光程差而发生干涉现象。因此在再现像上可观察到干涉条纹,下面对双曝光全息干涉法测量 位移的记录过程进行分析。 设物体加载前后的物光为: O x y O( e, 1 ) i10 x−( yϕ, 1 ) (1) O x y O( e, 2 ) i20 x−(yϕ, 2 ) (2 ) 参考光为 R x y (R ,e ) i 0 x−

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