DFB激光器中介质光学薄膜的作用研究.pdf

第六属全国固体 薄膜学术会议论文 DFB激光器中介质光学薄膜的作用 毕可奎 (中科院半导体研究所，国家光电子工艺中以北京，11=83) 一 引言 近几年来光电子技术得到迅速发展。光学礴膜技术已经成为半导体激光器的工艺基础之 一。对普通的F-P腔半导体激光器腔面镀膜会直接影响激光器的阔值电流，输出功率外量子效 率等一系列特性。。如果在一个端面镀高反射膜(HR),会提高激光器的输出功率，降低阔值电流. 在另一端面上镀增透膜(AR)会改善外量子效率。在剩余反射率足够小的情况下，可把激光器转换 成半导体放大器及超辐射二极管。可以说，光学薄膜技术是提高和改善半导体激光器特性的重要 手段之一。对于分布反谈 (DFB)激光器油于光姗的引人，其情况不象普通激光器那样简单直 接。 过去我们报导了关于半导体激光器的端面镀膜对器件的特性作用的情况(12,331.本文翔寸 DFB激光器的端面镀膜实验结果进行研究分析。 根据半导体激光器原理，普通F-P腔激失活导的特性与其端面反射率的关系，可以从它们表达 式明显的表示出来。如: 、电Tml(}黔，六·L\R,,}z)一“ 外。X,C率T(aI)=?n,,}1+2aL;}LRR121 by “出功‘(Po}--誉。[‘一‘I,,l 其中R,和Rz是两个端面的反射率，to是透明电流。，d为外量子效率，h为普朗克常数， v为光波频率，e为电子电荷，1为工作电流，其它为与器件有关的参数。通过这些关系式能够 比较容易地估计出激光器端面镀过光学膜后腔面反射率改变对器件特性的影响。对于DFB激 光器，由于光栅的31人，其m值条件为: (-Ii-rY月 exp(2igL)=， \,i一r,r八 I一几ri 其中rl和。是腔面的反狐数可用ri二河exp(io)新，这意味着端面的反射系数影响到 闻值条件，不仅与端面反射率有关而且还涉及到光栅不完整周期在端面处的相位.}i.r是DFB 结构的反射振幅比。它定义为r+(9)=(4-AP)ix1(9+A6),v是由色散关系q-=A旷-K=决定的加 是相位失配因子，、是祸合系数。这样在一般情况下，推导出有关特性的解析表达式是困难的，数 位解的结果很有指导意义，但不直观、因而，通过实验直接测金和观察端面渡膜的DFB激光器特 性就显得I-有意义了。 二、光学膜层设计和镀制 实验用DFB}器的基本结构如图I所示 在激光器的一端镀高反射膜田刃，另一端面镀 六届全国固体薄膜学术会议论文集 增透膜(AR).根据器件的要求，高反射膜设计成?J4膜系rtjLH,LH,阮结构。低折射材料选用A1:03 其7J4膜层用1:表示高折射率材料1选用Si,其V4膜层用H，表示肩折射率材料2选用Ti0其‘ Al4膜层甩姚表示.增透膜的设计选用单层结构，其材料选用一种ZrO2和Y=03的棍合膜料。 膜层是用电子束燕发设备镀制的。在镀膜过程中，每层的光学厚度由极值法控制。蒸发速率 是由石英晶体监控仪控制。 镀膜实验是在DFB激光器管蕊解理条上进行 ‘在两个端面镀膜之后将解理条解成单个管 蕊，组装成单管，然后进行测试分析，观察介质光学薄膜对激光器的影响。 三、结果 为了比较，我们把同一只管子镀膜实验前后测量的P-1输出特性绘于图2中，其中(a)为镀膜前 的测量结果,(b)是镀膜后的。从图中可以清楚地看到,(I)该激光器的阅值电流相当的低。两个端 面在这样的反射率下，镀膜之后闯值电流没有很大变化。(2)镀膜后的输出特性明显地变得陡直 即外量子效率得到明显改善。这样的特侣拐寸于实际使用是极为有利的。 镀膜对DFB激光器光谱特性的影响示于图3中。样品是取自另一批中的两个。其(a)图是 未镀膜的光谱。在工作电流为14mA时，F-P模式还比较小。在电流增加到35mA时,，F-P模式急 增，可以与DFB模式相比拟了。向图是镀过膜的光谱特性农工作电流为1L5mA时，有一边模稍 强，其它都较弱.在工作电流增加到104mA,输出为30wW时，其边模没有增加。这味仍有着良好 的边模抑制特性. 四、总结 综上所述，可以看到镀介质光学薄膜对DFB激光器的作用。端面镀膜不仅能改善其输出特 性，同时