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化合物半导体和空间用太阳电池及材料 .269.
II
两种制备多晶铜铟硒薄膜方法的比较
林飞燕秦娟徐环 史伟民魏光普
上海大学材料科学与工程学院上海200072
【摘 CuInSe2(CIS)半导体材料具有出色的光伏性能、丰富的缺陷物理内涵以及
多样的制备方法,二十多年来一直受到太阳能电池界和材料物理界的极大关
注。本文采用真空顺序蒸发铜铟金属预置层后真空硒化退火的方法(硒化法),
以及真空三元叠层蒸发后氮气气氛退火的方法(叠层法)分别制备了太阳能电
微结构,组分和光电性能。结果表明:两种方法制备的薄膜形貌都比较致密
均匀,晶粒直径分别约1.5gm和约1gm。组分分析表明所制薄膜均为富铜
CIS。硒化法制备的CIS薄膜具有单一的黄铜矿相结构;而叠层法制备的薄
膜含有少量杂相(如In2Se3)。因此硒化法制备的薄膜更适于作为太阳能吸收
,
层材料。 :
【关键词】 铜铟硒薄膜太阳电池硒化法叠层法
The ofTwoMethods ThinFilms
Comparison CuInSe2
Fabricating
LIN QINQuan‘XUHuanSHI WEI
Fei·yan Wei·min Guang-pu
School
ofMaterialScience
0引言
I一Ⅲ一Ⅵ族三元化合物铜铟硒(CIS)经实验和理论证实在可见光区具有高吸收系数
(6x[05cm-1),较为适合的禁带宽度(Eg=1.04cV),和能不借助外加杂质制成P型(富铜)
或N型(富铟)半导体等优点,成为第三代太阳能电池中优秀的吸收层材料。CIS中增加适
量的Ga制成的CIGS太阳能电池的转化效率已经达到了21.5%【1】。
国内外研发了各种的制备方法,如:(1)真空蒸发法;(2)磁控溅射法;(3)电沉积法;
(4)分子束外延法;(5)气相沉积法等。其中真空蒸发法和磁控溅射法在日本、美国、德国
无论在实验室和生产线上都有采用。但作为实验室里制备面积较小的电池样品,真空蒸发法
制备的电池效率较高。本论文采用真空J暖序蒸发铜铟金属预置层后真空硒化退火的方法(硒
化法),以及真空三元叠层蒸发后氮气气氛退火的方法(叠层法)制备CIS薄膜,对两种方
法制得的CIS薄膜进行了检测、分析和比较。
·270· 中国太阳能光伏进展
1实验
本实验采用普通玻璃与镀钼碱石灰玻璃为衬底。真空蒸发在型号为DM-450A镀膜机中
进行。
●
1.1 硒化法
时,衬底与舟的距离为20cm,真空度为1.6x10~Pa。铜的蒸发温度为l1000C,铟的蒸发
温度为700。C。硒化退火时,将制备好金属预置层的衬底和硒粉放在一个密闭的石墨盒中;
石墨盒放在管式电阻炉的石英管中部;石英管由机械泵抽真空至1Pa。退火步骤:由室温升
至2500C保温1h,再升温至500。C保温lh。退火完成后,随炉冷却至室温。
1。2叠层法
退火时通氮气排除大气后逐步升温至2270C,保温1h。退火完成后在氮气气氛下,随炉冷却
至室温。实验样品的对应编号见表1。
表1试样编号
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