电子束蒸发Ar离子辅助沉积Si光学薄膜的特性.pdfVIP

SEMICONDUCTOR OPTOELECTRONICS Vol. 27 No. 6 Dec. 2006 材料、结构及工艺 电子束蒸发Ar 离子辅助沉积Si 光学薄膜的特性 1 2 2 2 舒雄文 ，徐 晨 ，田增霞 ，沈光地 （1. 中国科学院理化技术研究所，北京100080 ；2. 北京工业大学 光电子技术实验室，北京100022 ） 摘 要： 对用常规电子束蒸发和Ar 离子辅助沉积所得的非晶硅光学薄膜的光学常数、表面 形貌、热稳定性和湿度稳定性等进行了研究。结果发现Ar 离子辅助沉积所得非晶硅光学薄膜的折 射率大大提高，表面粗糙度明显降低，湿度稳定性和热稳定性也得到较大改善，但是光学带隙变窄， 光学吸收增加。 关键词： 光学薄膜；离子辅助沉积；光学常数；热稳定性；湿度稳定性 中图分类号：TN305 . 8 文献标识码：A 文章编号：100 1 - 5868（2006 ）06 - 0740 - 02 Optical Characteristics of Si Films by Ar Assisted Electron Beam Evaporation Deposition SHU Xiong-wen1 ，XU Chen2 ，TIAN Zeng-xia2 ，SHEN Guang-di2 （1. Technical Institute of Physics and Chemistry ，Chinese Academy of Sciences ，Beijing 100080 ，CHN ； 2. Opto-electronic Technology Laboratory ，Beijing University of Technology ，Beijing 100022 ，CHN ） Abstract ： The opticai constants ，surface structure ，thermai and humidity stabiiity of amorphous siiicon opticai fiims have been investigated by using reguiar eiectron beam evaporation and Ar assisted deposition . It is found that Ar ion bombardment can enhance the refractive index ，decrease the roughness and improve the thermai and humidity stabiiity ，and but it ieads to the narrowing of the bandgap and the increase of the opticai absorption. Key words ： opticai fiim ；ion assisted deposition ；opticai constant ；thermai stabiiity ；humidity stabiiity 1 引言 发Ar 离子辅助沉积Si 薄膜特性进行了研究。 非晶硅作为一种高折射率材料在光学薄膜领域 2 实验及结果 的应用是很广泛的，例如好多种不同波长半导体激 文中非晶硅薄膜均由美国Denton Vacuum 公司 光器的腔面高反膜的高折射率材料通常都是用的非 ［1 ~ 4 ］ 的Infini