薄膜制备技术中溶胶一凝胶工艺研究.pdfVIP

第 5期 薄膜制备技术 中溶胶一凝胶工艺研究 45 薄膜制备技术中溶胶一凝胶工艺研究 韩德强 李 勇 (江西理工大学材料与化学工程学院，赣州，341000) 摘 要 综述了溶胶一凝胶工艺在薄膜制备技术中的现状和技术动态、溶胶一凝胶工艺的成膜理论和成 膜工艺对薄膜工业发展的促进，并简要提出了溶胶一凝胶薄膜工艺影响薄膜厚度的因素和存在的主 要技术问题 。 关键词 ：溶胶一凝胶法 成膜理论 成膜工艺 发展现状 2．1 工艺的特点及发展状况 1 前言 溶胶一凝胶工艺是六十年代发展起来的一种材 随着表面化学的发展，薄膜制备技术也越来越 料的制备方法。其基本过程是一些易水解的金属化 成熟。薄膜制备技术可以根据成膜的特点以及使用 合物(无机盐或金属醇盐)在某种溶剂中与水发生反 成膜材料的化学成分和物理化学性能分为 以下几 应，经过水解与缩聚过程，再经过干燥、烧结等后处 种 ¨： 理工序 ，最后制得所需的材料[2]。 物理气相沉积法 (PvD)：在物理蒸气沉积 中， 适当调节溶胶 的粘度和表面张力，通过旋涂或 膜产生在固体表面上，是由元素和化合物从蒸气相 浸渍方法将溶胶沉积在衬底上，得到湿膜。经过干 凝结而成的，其原理一般为纯粹的物理效应，但有时 燥，除去低沸点的溶剂，得到干膜 。干膜 中凝胶的三 也可以与化学效应相关联，包括蒸发、溅射和离子镀 维网络仍然存在，膜中还有大量有机成分。将干膜 等方法 。 在较高的温度下分解，使膜中的有机成分分解燃烧， 化学气相沉积法 (CVD)：CVD实质上是一种气 就得到无机非晶薄膜。重复以上步骤，增加薄膜的 相物质在高温下通过化学反应而生成固态物质并沉 厚度。如果要得到结晶的薄膜还必须将非晶薄膜在 积在基板上的成膜方法 。 更高的温度下退火，依靠原子的扩散成核结晶。干 酸蚀镀膜法：其原理是基于被镀物 (一般是玻 燥、分解和退火的过程必须十分小心，避免凝胶收 璃)中的硅酸盐如K2SiO。、Na2Si03、CaSiO。的水解， 缩、有机成分分解时体积变化过快、应力集中出现裂 从而在其表面上形成硅酸盐胶膜和碱金属氢氧化 纹。因为凝胶中各成分是分子级的}昆合，金属原子 物 。 无需长程扩散即可成核，因而结晶温度 比固相反应 化学沉积镀膜法：利用化学反应剂的相互作用 温度显著降低 。 在镀件表面获得薄膜 的方法，如银、金、镍等金属反 自从 1971年，人们首先通过溶胶一凝胶工艺制 射膜 ；硫化物薄膜 ，如硫化物光敏膜等 。 备出多种氧化物固体材料E3]以来，该工艺越来越受 溶胶一凝胶 (sol—ge1)镀膜 ：以金属醇盐或无机盐 到青睐。溶胶一凝胶工艺与传统工艺的无机材料制 溶人合适的溶剂中形成镀膜用的溶液，将被镀物浸 备方法相比较有如下优点[4]：首先，其工艺温度低， 人溶液中，以一定的速度上引，在所要求的湿度和温 在玻璃和陶瓷方面可以制得传统方法难以得到的或 度的气氛中，形成均匀的膜层，再经水解缩聚反应后 者根本得不到的材料；而且工艺温度大大降低，也使 形成膜层 。