第二章 光辐射的调制 光电技术教学课件.pptVIP

激光院朱大庆 第二章 光辐射的调制 光辐射的现代调制方法： 按调制是在光源内发生还是光源外进行分： 内调制和外调制 内调制：将欲传输的信号直接加载于光源，以改变光源的输出特性来实现调制； 例：对半导体激光器的驱动电源用调制信号直接控制，实现对所发射激光强度的调制； 又如：把调制元件放在谐振腔内，用欲传输的信号控制调制元件物理性质的变化而改变光腔参数，从而调制激光输出。 外调制：在光源外的光路上放置调制器，将欲传输的信号加载于调制器，透过光的物理性质将发生变化，实现调制。 电光调制 声光调制 磁光调制 热光效应 2.1 机械调制 2.2 电光调制 晶体的电光效应可实现对晶体中传播光波的调制，有相位调制、强度调制和脉冲调制等。 在实际应用中，电光晶体总是沿着相对光轴的某些特殊方向切割而成的； 电光效应在实际应用中通常有两种方式，即纵向与横向电光效应； 一、 电光效应 晶体的折射率因外加电场而改变的现象称为电光效应。 KDP晶体的线性电光效应 常用的电光晶体是一些各向异性的光学晶体，如磷酸二氢钾 ， 磷酸二氘钾 ， 磷酸二氢氨 ，铌酸锂 (记为 )等。以下结合 加以说明。 若入射光方向与施加电场方向相垂直的电光效应称为横向电光效应。电场可以沿晶体的任一介电主轴（ x、y或z轴）加于晶体。例如，电场沿z方向施加，光沿x轴方向入射，如图所示。 因外加电场仍沿z轴，与纵向运用时一样，晶体的主轴x和y旋转45o。 但此时通光方向与z垂直，且入射光偏振方向与z成45o ，沿x’方向入射，进入晶体后将分解为沿y’和z方向振动的两个分量， 二、电光相位延迟 以外加电场平行于光轴的KDP晶体为例，一束线偏振光沿z轴方向入射晶体，且E矢量沿 x方向，进入晶体后分解为沿x’和y’方向的两个垂直偏振分量。 光波沿z方向传播距离l后，两偏振光之间的相位差为 电光相位延迟 进行纵向电光效应的实验装置如图所示，它由一对平行偏振器和一块晶体组成。 优点：结构简单、工作稳定、不存在自然双折射的影响； 缺点：半波电压太高，特别在调制频率太高时，功耗较大。 2、横向电光强度调制 第2章 要求 什么是光辐射的调制？ 光辐射的调制有哪些方法？如何分类？ 何谓电光效应？分为哪几种？ 以KDP为例简述电光调制的原理。 * * 调制的内容：是指改变光波振幅、强度、相位或频率、偏振等参数，使之携带信息的过程。 调制的目的：光信息系统的信号加载与控制 调制的方法： 传统方法：调制盘（对光辐射强度进行调制）； 现代方法：利用外场的微扰引起介质的非线性极化，从而改变介质的光学性质。在外场下利用光和介质的相互作用而实现对光辐射振幅频率、相位等参数的调制。 激光外调制 体调制 光波导调制 光调制 光调制：改变光强或频率 光偏转：改变光的方向 常用方法:机电振子、旋转调光盘等 用遮光或改变透过率方式作光通量的幅度调制。 M t N M t N 缺点：难进行高频调制、体积较大等 电光调制就是利用电光效应将电信号调制到传输的光载波上，进而实现光学控制。 各向同性介质 外加强电场 双折射现象 双折射现象 双折射变化 e光 晶体的截面 O光 单色自然光 通常材料的介电常量 ?与外电场无关，但当外加电场较强时，介电常量便有微小的变化，从而引起折射率变化： ?、?为常量 线性电光效应，或Pockels效应（KDP、LiNbO3） 二次电光效应，或Kerr效应（BaTiO3、硝基苯液体） ?、k由介质本身的性质决定，取决于晶体本身的结构和对称性。 现在讨论线性电光效应 在晶体的介电坐标系中，无外加电场时，描述晶体光学性质的折射率椭球方程为 其中下标1，2，3分别表示坐标 x、y、z。 当晶体施加任意电场时，晶体的折射率发生变化，可以把电场对晶体的这种作用归结为折射率椭球系数的改变。因此，当有电场存在时，折射率椭球在介电主轴座标系中的方程为 其中 是对称二阶张量 采用下标简化形式以 表示 ，则 的下标为 11，22，33，23(32)，31(13)，12(21) 1, 2, 3, 4, 5, 6 有6个独立的分量。 无电场时， ，于是 施加电场时 ，折射率椭球系数的改变量 与外加电场 成正比，即 其中 称为电光系数张量，共有18个元素， 可表示为6 ?