激光熔覆原位自生Ti(C,N)陶瓷涂层的热力学理论及工艺.pdfVIP

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第3l卷第8期 自 东北大学学报( 然科学版)V01.31,No.8 Nonheastem 2010 2010年8月 Joumalof UniverSity(NaturalScience) Aug. 激光熔覆原位自生Ti(C,N) 陶瓷涂层的热力学理论及工艺 杨玉玲1,姚文明1,刘君宾2,张赫之1 (1.东北大学理学院,辽宁沈阳110004;2.沈阳黎明发动机(集团)有限公司,辽宁沈阳ll0043) 摘 要:利用500w脉冲YAG激光作为辐射源。纯氮气作为氮化元素,粒度为20脚的钛粉和石墨粉为 预涂粉末,采用激光熔覆原位自生的方法,在Ti一6~一4v表面制备出优良的Ti(C,N)陶瓷涂层.通过热力学分 析,并结合Ⅺm分析方法,研究了原位自生Ti(C,N)的反应机理以及工艺参数(包括脉冲频率、脉冲宽度、扫 描速度等)对原位自生Ti(C,N)陶瓷涂层的影响.热力学分析结果表明,在激光辐射条件下,可原位生成以 m(C,N)为主的陶瓷涂层.x】m分析表明,合适的工艺组合为:氮气压强为O。4MPa,离焦量为15mm,扫描速 mN03.研究结果表明,熔覆层内以枝晶组织为主,分布比较均匀,原位生成的陶瓷层与基底形成了良好的冶 金结合. 关键词:激光熔覆;原位自生;T-(C,N);陶瓷涂层;热力学分析 中图分类号:TG148 文献标志码:A 文章编号:1005—3026(2010)08—1165—05 and StudiesonIn-situSelI’_ ThermodynamicalTechnological ViaLaser Ti(C,N)Ceramic Generating Coating CIadding Y≯!u、dG H咎j疣i1 Yk—Zi,291,yAoW砌一7咒i,z91,LJ己厂J“咒一6i722,ZH4卜fG (1.scha0IofSd锄ces,N6rthe雒tem LimingA既o Unive商ty,shenyang110004,C11im;2.sh朗yangEn西ne G砌JpCC卿ti∞,sh朗yang110043,Chim.cc盯剀Ⅻ1d衄t:YANGYu-ling,as8。ciateprofess。r,Bmail: yuIillg:yang@mail-neu.edu.c11) in.Situ onthesurfaceofTi一6~一 Abstr舵t:The Ti(C,N)cer刮嘶c00ating Self—generating prepared 4V laSer waS a 500W YAGlaSer alloyby pulsed cladding(LC)depOsitiOninvestigated,where with the wasusedasradiationSource the uSedfor and ti协ium 99%一purityN2 nitrogemtion size useda

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