用于微镜制作的叠层光刻胶工艺及残余应力控制.pdfVIP

第16卷第11期 光学精密工程 V01．16No．11 andPrecision 2008年11月 Optics Engineering NOV．2008 文章编号1004—924X(2008)11-2204—05 用于微镜制作的叠层光刻胶工艺及残余应力控制 李加东1’2，张 平1，吴一辉1，宣 明1，刘永顺1，王淑荣1 (1．中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室，吉林长春130033； 2．中国科学院研究生院，北京100039) 摘要：对应用于微反射镜制作的叠层光刻胶牺牲层工艺及微反射镜表面残余应力控制进行了研究。讨论了光刻胶牺牲 层在电镀时的污染问题，提出了用电镀结束后重新制作光刻胶牺牲层的方法来保证牺牲层表面质量。同时提出蒸发一电 镀相结合的工艺，解决了上层光刻胶溶剂穿过中间结构层浸入底层光刻胶的问题，并通过控制蒸发与电镀过程中应力状 态不同的两层金属薄膜的厚度解决了微反射镜镜面存在残余应力问题。最后成功释放了620弘mX500弘m×2pm。悬空 高12灶m的微反射镜结构。 关键词：微反射镜；叠层光刻胶；牺牲层；残余应力 中图分类号：TN305．7文献标识码：A Laminated and photoresistlayer technology residualstresscontrolformicromirrorfabrication LI Yi—huil，XUAN Jia—don91”，ZHANGPin91，WU Min91，IAUYong—shunl，WANGShu—ton91 (1．State Institute Mechanicsand KeyLaboratoryofAppliedOptics，ChangchunofOptics，Fine of 130033，China； Physics，ChineseAcademySciences，Changchun 2．Graduate Chinese 100039，China) Universityof AcademyofSciences，Beijing laminated sacrificial andresidualstresscontrolinmi— Abstract：Thephotoresist layertechnology cromirrorfabricationwere in relatedtothe investigated．Pollutionproblemselectroplating photoresist sacrificialwerediscussedandtheirsolutionswere newfabrica— layer proposed．Throughexperiments。a tion is tOsolvethe thatthesolventin theelec— processdeveloped problem upperphotoresistpenetrates basemetal anddissolvesthesacrificialto middle