射频辉光放电等离子体辅助化学气相沉积法制备类.pdfVIP

2009年lO月 金刚石与磨料磨具T程 Oct．2009 第5期总第173期Diamond＆AbrasivesEngineering No．5Serial．173 文章编号：1006—852X(2009)05一O007—06 射频辉光放电等离子体辅助化学气相沉积法制备类 金刚石碳膜工艺与性能表征’ 陈冲2 曹 宁1’2 张益博‘ 王风2 吕 震2 李木森1·2 费振义1’2亓永新1，2 (1．山东大学材料液态结构及其遗传性教育部重点实验室，济南250061) (2．山东省超硬材料工程技术研究中心，邹城273500) 积类金刚石薄膜。用原子力显微镜(AFM)、摩擦试验仪、划痕试验机测定了其表面形貌、耐磨性及附着 透光率进行了检测和对比。结果表明：DLC薄膜的表面光滑、平整，表面粗糙度随沉积时间的增加单调 递增；耐磨性及附着性优良；与C。Hm相比使用C：H：作为碳源气体可以得到较高sp3含量和较低spl含量 的透光性越好。 关键词射频辉光放电等离子体辅助化学气相沉积；类金刚石薄膜；放电特性 文献标识码A 中图分类号TQl64；TB43 and characterizationofdiamond performances Preparationtechnique carbonfilmsRFGDPECVDmethod -like by Chen Fei Qi Cao 1，2 Chon92Zhenyil2Yongxinl，2Ning Yib01 LvZhen2LiMusenl·2 Zhang WangFen92 and Materials Laboratoryof伽删StructureHeredityof (1．Key Education)，ShandongUniversity，五耽n250061，China) (Ministryof Centre ResearchforSuperhardMaterials，Zoucheng273500，China) (2．ShandongEngineering AbstractThediamond—like were onthe substratesradio carbon(DLC)filmssuccessfullydepositedglass by chemical method： glow enhanced vapor frequencydischargeplasma adhesionof DLCfilmsweretestedmeansofatomicforce Thesurface resistanceand the by morphology，wear