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固体表面的分析和测试
* X射线光电子能谱图 X射线照射到样品上,可使原子中各轨道电子杯激发出来成为光电子,无能量损失的光电子,其能量的统计分布就代表了原子的能级分布情况。 在X射线光电子谱中,电子能级符号以nlj表示。其中n为主量子数; l为轨道角量子数; j为内量子数(又叫总角动量量子数)。 例如n=2,l=1(即p电子),j=3/2的能级,就以2p3/2表示。1s1/2一般就写成1s。 * 纯Ag片的光电子能谱图 * X射线光电子谱中峰的种类 光电子峰和俄歇峰 光电子峰在谱图中是最主要的,它们是具有特征能量的光电子产生。光电子峰的特点是:谱图中强度最大、峰宽最小、对称性最好。 由于光电子的产生,随后必然会产生俄歇电子,俄歇电子的能量具有特征值,在光电子谱中也会产生俄歇峰。 由于俄歇电子的动能与激发源无关,因而对于同一样品,在以动能为横坐标的XPS谱线全图中,俄歇谱线的位置不会因改变X射线激发源而发生变动。 * 俄歇峰的这一现象正好与光电子的情况相反。对于光电子峰,在以结合能为横坐标的的XPS谱线全图中,其位置不会因X射线激发源的改变而发生变动。显然,利用这一点,在区分光电子与俄歇谱线有困难时,利用换靶的方法就可以区分出光电子峰和俄歇峰。 X射线伴峰和鬼峰 X射线伴峰产生的原因是:在用于辐射的X射线中,除特征X射线外,还有一些光子能量更高的成分。鬼峰主要是由于靶受到污染而导致。 * X射线光电子能谱仪 X射线源 X射线源由灯丝及阳极靶等组成,作用是产生特征X射线。 因为光电子的动能取决于入射X射线的能量及电子的结合能,因此,最好用单色X射线源,否则轫致辐射和X射线的“伴线”均会产生光电子,对光电子谱产生干扰,造成识谱困难。为此采用X射线单色器。 XPS一般由激发源、样品台、电子能量分析器、检测系统以及超高真空系统等部分组成。 * XPS适用的X射线,主要考虑谱线的宽度和能量。目前最常用的X射线是Al和Mg的Kα射线,都是未分解的双重线。Al的Kα射线的能量为1486.6eV,线宽为0.85 eV;Mg的Kα射线的能量为1253.6eV,线宽为0.70 eV。 电子能量分析器 电子能量分析器是XPS的中心部件,其功能是测量从样品表面激发出的光电子的能量分布。在XPS中,因为要测量谱线的化学位移,因此对电子能量分析器的分辨率要求较高。 * 超高真空系统 XPS的超高真空系统有两个基本功能,一方面是光子辐射到样品时和从样品中激发出的光电子进到能量分析器时,尽可能不和残余气体分子发射碰撞;另一方面是使样品在测试过程中不发生表面吸附现象,保持原始状态。 * X射线光电子能谱仪的主要功能 定性分析 实际样品的光电子谱图是样品所含元素的谱图的组合。根据对样品进行全扫描获得的光电子谱图中峰的位置和形状,与手册提供的纯元素的标准信息进行对比,既可以分析样品所包含的元素种类,及进行定性分析。 一般的分析是,首先识别最强谱线,然后,找出被识别出的元素的其它次强谱线,并将识别出的谱线标示出来。与俄歇电子能谱仪的定性分析过程基本相同。 * Cu的标准谱(X射线光电子谱主峰和化学位移表) Cu的标准谱(俄歇线) * 标准光电子谱图中的能量坐标一般是结合能,而不是动能。尽管光电子的结合能与激发源光子能量(靶材)无关,但俄歇电子的结合能与靶材有关;并且不同靶材使同一元素电离出的光电子各峰在强度上不一定都完全相同。因此,分析时最好选用与标准谱图中相同的靶材。 与俄歇电子能谱的分析相同相同,光电子谱的定性分析也可由能谱仪中的计算机软件来自动完成。但对某些重叠峰和微量元素弱峰需通过人工分析来进一步确定。 * 定量分析 定量分析是根据光电子的信号强度与样品表面单位体积的原子数成正比,通过测得的光电子信号的强度来确定产生光电子的元素在样品表面的浓度。 XPS的定量分析与俄歇普的定量分析有不少共同之处。主要也是采用相对灵敏度因子法。 但是,元素的相对灵敏度因子通常是以F1s谱线强度为基准,其它元素的最强谱线或次强线与之相比而得。 * 与俄歇定量相比,X射线光电子谱没有背散射增强因子这个复杂因素,也没有微分谱造成的峰形误差问题,因此定量结果的准确性比俄歇谱好,一放认为,其误差可以不超过20%。 * 化学态分析 化学态分析是XPS分析中最具特色的分析技术。它是基于元素形成不同化合物时,其化学环境发生变化,将导致内层电子的结合能发生变化,在谱图中产生峰的位移(这种位移称为化学位移)和某些峰形的变化,而这种化学位移和峰形的变化与元素化学态的关系是确定的。据此,可对元素进行化学态分析,即确定元素形成哪
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