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CleanRoom-高雄第一科技大学
微系統製造與實驗─微影製程 1
National Kaohsiung First University of Sci. Tech.
微影製程
Lithography
余志成
高雄第一科技大學機械系
Department of Mechanical and Automation Engineering
National Kaohsiung First University of Science and Technology
MicroSystem Fabrication Lab.
NKFUST
Clean Room
Particles
Humidity
Vibration
Pressure
Electromagnetic wave
Static
De-Ionized water
MEMS Lab.
2
國立高雄第一科技大學機械系 余志成 2004
微系統製造與實驗─微影製程2
NKFUST
無塵室等級
塵粒控制
HEPA過濾
洗手→戴口罩→戴無塵帽→穿無塵衣→穿無塵鞋→戴塑膠手
套→用空氣清洗
日本:每立方英呎室內之空氣 美國:每立方英呎室內之空氣
所含有大於或等於0.1 μm之微 所含有大於或等於0.5 μm之微
塵粒子顆數 塵粒子顆數
級別 1 不超過101顆 Class 1 不超過1顆
級別2 不超過102顆 Class 10 不超過10顆
級別3 不超過103顆 Class 100 不超過100顆
4
級別4 不超過10 顆 Class 1000 不超過1000顆
MEMS Lab.
3
NKFUST
粉塵對製程的影響
影響晶圓的鍍膜製程
影響局部材料電性
影響微影圖形
孔洞
限制局部導線電流
短路
MEMS Lab.
4
國立高雄第一科技大學機械系 余志成 2004
微系統製造與實驗─微影製程3
NKFUST
無塵室的控制項目
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