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奈米矽质谱分析晶片NanostructuredsiliconnSimassspectrometry
奈米矽質譜分析晶片
Nanostructured silicon (nSi) mass spectrometry chip
曹嘉文 林園景
國立中央大學 國立中央大學
機械工程學系 機械工程學系
cwtsao@.tw wesley43232@.tw
摘要
質譜分析為檢測蛋白質與胜肽樣本的重要工具,應用在許多如生物醫學、細胞代謝、藥
物檢測等檢測分析應用領域中,如今質譜檢測快速發展,檢測技術朝向以無機質的固態材料
為基材,稱之為表面輔助雷射脫附游離法(Surface-assisted Laser Desorption Ionization ,
SALDI ),而本論文研究使用金屬輔助蝕刻製作出奈米矽結構(nanostructured silicon , nSi) ,
此結構具有高的表面積可吸收質譜儀之雷射能量 ,進而使滴定於奈米矽晶片上方之樣本離子
化進行檢測,在檢測分析上具有高靈敏度且不受基質干擾等獨特優勢 。
關鍵字:奈米結構、矽晶片、質譜檢測晶片 、高靈敏度 、樣本檢測技術
壹、前言
一、背景簡介
質譜檢測技術為目前重要的工具之一 ,其工作原理是分析物經由離子化游離過程後
形成帶有離子的狀態,依據分子質荷比 (m/z : mass to charge ratio) 判定分子原子量 ,
此方法具有高靈敏度和高準確度之量化分子量鑑定,可廣泛用於蛋白質體鑑定以及分析,
以及例如藥物檢測、食品分析、臨床檢測、細胞學、生物組織、蛋白質體學等應用 。而現
今質譜發展以降低樣本處理時間達到快速檢測為目的,快速篩檢有害黑心食品以及檢驗
濫用藥物者尿液分析用以輔助刑事辦案等用途上,質譜分析技術廣泛運用時日常生活中,
與我們生活息息相關。
傳統使用 MALDI-MS 分析如血液、細胞、尿液等複雜的生物樣本,必須將樣本進
行前處理使樣本分離及去鹽,前處理過程繁瑣且耗時 [1] ,因此1993 年 Hutchens 與
Yip ,提出表面增強雷射脫附游離法(Surface-Enhanced Laser Desorption/Ionization,
SELDI )。此方法結合樣本前處理與基質輔助樣本離子化的檢測方式 [2] ,在SELDI 基材
表面可先對欲檢測分析物做對應的化學鍵結、抗體、DNA 改質,將複雜的樣本滴在改質
後的表面,透過清洗留下相對應的檢測物,最後在滴上基質於表面。SELDI 的檢測方式,
不僅可以減少樣本前處理的時間,可以快速樣本分析,可以透過更改不同的表面性質,
檢測目標分析物。可以將不同化學改質表面組成陣列,可做大量檢測分析。由於 MALDI-
MS 的發展讓樣本檢測技術更進一步提升,不過由於基質雖然能輔助樣本脫附游離,但
離子化後的基質樣本也會進入質量分析器,造成 700 Da 以下背景雜訊干擾,使樣本判
定困難。在 MALDI 中所常用的基質為乾燥的固態狀,不過固化的時間可能導致蛋白質變
質或堆積,且添加基質造成低分子量背景干擾。為了改善基質帶來的問題,1995 年Jan
Sunner 團隊將 2~150μM 石墨顆粒與甘油混合做為液態基質,石墨顆粒可以吸收雷射
光並透過甘油將熱能傳遞給分析物,此方法成功檢測出胜肽與蛋白質訊號,且大幅降低
於低質量區的背景雜訊,將此方法命名為表面輔助雷射脫附游離法(Surface-assisted
Laser Desorption Ionization , SALDI )[3] 。之後學者開始朝著以固態的無機材料發展,
在 1999 年 Suizdak 首度提出以多孔矽 (porous silicon )做為基材,可直接將樣本游
離,成功利用無機質的方式檢測出樣本,將此方法稱為 DIOS (Desorption–ionization
mass spectrometry on porous silicon) [4] 。
後續許多學者也使用不同的基材運用於質譜檢測,在 2007 年 Nay
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