应用差分干涉对比剪切干涉仪於透明倾斜表面的形貌量测.PDFVIP

應用差分干涉對比剪切干涉儀於透明傾斜表面的形貌量測 余昇剛 劉定坤 林士傑 國立清華大學 工業技術研究院 國立清華大學 動力機械工程學系 量測技術發展中心 動力機械工程學系 s9833803@m98.nthu.edu.tw teicon@itri.org.tw sclin@pme.nthu.edu.tw 摘要 本論文探討應用相位移式差分干涉對比剪切干涉儀於量測透明傾斜表面待測物形貌時，表面傾斜 角度對於量測精度的影響。研究中建立了光學系統模型，模擬從 5 度到 60 度的傾斜角度待測物量測 情形。同時並架構實驗設備驗證此量測方法的可行性與光學模型的可信度。研究結果發現當傾斜角度 大於 15 度時，量測所得的相位差資訊必須採用相位展開技術使量測結果更加準確。此外，加入考慮 以差分干涉系統中剪切距離的改變對於光程差的影響，可以更進一步的提升應用差分干涉對比剪切干 涉儀於量測透明傾斜表面待測物時的量測精度。此方法將對於未來在量測複雜形貌或高斜率表面的待 測物時提供有價值的資訊。 關鍵字：差分干涉對比術、表面形貌量測、稜鏡角度、定量化相位還原。 壹、前言 由於光電產業的快速發展，使得多種以玻璃或塑膠高分子材料製成的透明材質元件，如 TFT(Thin-Film Transistor)基板、透明電極、或是導光板等元件被大量的開發應用。為了兼顧良好的成 像品質與輕薄的需求，多樣複雜的微結構被研究並量產在透明材料上。因此，檢測透明材質三維形貌 的技術研發日益重要。目前的形貌量測技術可分類為接觸式的探針式儀器、原子力顯微鏡(AFM) ；以 及非接觸式的光學式輪廓儀(Optical Profiler) 、雷射掃描(Laser Scan) 、共焦技術、干涉儀等。為了達到 快速量測的需求並減少對樣品的破壞，常使用非接觸式的光學量測方式。但在這些量測方法中，由於 透明物體的反射光不足，對於量測透明物體的外型是很大的一個挑戰。 差分干涉對比剪切干涉儀(Differential Interference Contrast, DIC)亦屬於非接觸式的量測技術，利 用將入射光在空間中分離一個極小的間距的參考光而產生剪切干涉的效果，產生帶有待測物相位資訊 的干涉影像。此技術可強化透明材質與周圍環境的相位差別，適合應用於透明樣品的穿透式量測，並 且具有高空間解析度、高對比度、對環境震動不敏感的共光路設計等優點。 由於DIC技術原本應用於強化透明待測樣品影像的對比度，因此對於工業應用上的定量化的量測 精度並無嚴格的要求。Lessor等人[1-2]提出了定量化反射式DIC量測表面形貌的方法。Shimada等人[3] 則採用了移動Nomarski稜鏡的相位移調整方式開發了反射式DIC量測系統。Cogswell等人[4]則提出了 利用Senarmont補償器來調整相位移的方式，將傳統穿透式DIC轉變為定量化量測的相位移技術 (PS-DIC) 。其後King等人[5]提出藉由後續的處理與分析校正方法提升了定量化穿透式PS-DIC系統的量 測精度。 雖然有以上許多關於定量化DIC量測技術的研究，但相對來說，較少文獻提到關於量測透明傾斜 表面待測物的情形。Lessor等人[1]在其文獻中利用Nomarksi DIC技術檢測金屬表面的斜率並提出光學 模型，但是卻指出此方法僅適用於斜率小於3.781° 的量測限制。另有Ishiwata 等人[6]發表 retardation-modulated DIC (RM-DIC)的系統來量測微結構的相位分布情形，他們提出閃耀式光柵的近 似模型來說明定量化量測小斜率表面的狀況，但卻缺乏實驗上的驗證。 從原理上來說，由於光穿過待測物的傾斜表面時不會按照原本預設的理想路徑傳遞，因此勢必會 產生量測誤差。在我們先前的研究中[7]已應用相位移式DIC來量測微米級階高結構待測物，實驗結果 顯示此技術應用於階高待測物量測的可行性，我們更進一步對於較複雜的待測物形貌量測有興趣。本 研究將針對DIC系統量測具透明傾斜表面結構的稜鏡樣品時光傳遞的情形及形貌量測結果的誤差，此 研究結果將可能成為未來在發展DIC技術量測含有複雜表面結構待測物時的基石。