建立平坦化加工过程中抛光垫变形的计算模型-崑山科技大学ePortfolio.PDFVIP

第二十屆機械工程研討會論文集 建立平坦化加工過程中拋光墊變形的計算模型 洪興林 林育陞 吳紹宇 崑山科技大學 機械工程學系 摘要 過程拋光墊變形對其勁度性質會有影響，進而與 在積體電路的製造過程中，化學機械拋光 移除率(MRR)和減少不平整度(N.u.)產生關連。 (CMP)是可達到全域平坦化需求的唯一技術，而 Preston[1]提出一個以經驗為依據的方法，使用壓 拋光墊的平坦與否是影響 CMP 製程中最重要的 力及相對速度的方程式來估計玻璃拋光的移除 關鍵之一。為了確保確保化學機械拋光(CMP)的 率。而陸續有研究[2,3,4,5]對Preston 的公式做了 品質，必須將已磨損的拋光墊加以修整。進行拋 一些修正。為了精確計算 MRR ，這些研究者發 光修整時，提高移除率(MRR)與降低不平整度 現必須考慮其他的因素才能精確的計算出 (N.u.)一直是重心所在。然而，移除率(MRR)的提 MRR 。這些因素有磨料粒子組成的尺寸、接觸壓 高必須藉助於較大的修整力且拋光墊的勁度性 力、表面的硬度、移動的材料碎片、溶液的流體 質會因其厚度變薄而改變，表面不平整度(N.u.) 動態行為、表面粗糙度、適用的剪應力與拋光墊 會因而變差。因此，為了改善平坦化過程，使其 的形狀光滑明亮等等。然而，拋光墊的勁度和拋 移除率(MRR)提高且不平整度(N.u.)降低，修整過 光墊的變形不在考慮當中。換句話說，平坦化過 程拋光墊變形分析是相當重要的。此研究的目地 程拋光墊變形方程式似乎並未推導過。 是推導平坦化過程中拋光墊變形的公式。首先， 在本研究中，將提出一個簡單的方法以計算 利用修整器上同心圓機構的修整力進行加工，然 拋光墊變形。首先，在平坦化過程中利用修整器 後，應用Hertizian 接觸定理及彈力原理獲得拋光 上的同心圓機構在拋光墊上做修整。然後, 利用 墊的三維變形深度及勁度。最後，利用疊加法以 [6,7,8]的Hertizian 接觸理論和彈力原理獲得拋光 計算因修整器力產生的變形總和。結果顯示修整 墊的三維變形方程式。最後，利用疊加法以計算 器的變形大都集中在中間的位置，且在相同的修 因修整器力量產生的變形總和。結果顯示修整器 整力條件下，不同厚度的拋光墊所獲得的變形曲 的變形大都集中在中間的位置，且在相同的修整 線相似。總之，變形量的大小對平坦化過程指標 力條件下，不同厚度的拋光墊所獲得的變形曲線 (例如：MRR,N.u.)有相當重要的影響。 相似。總之，變形量的大小對平坦化過程指標(例 如 MRR,N.u.)有相當重要的影響。使用此公式， 關鍵字：拋光墊，變形量，移除率，不平整度 發展一種既能提高移除率且保持良好之不平整 度的平坦化加工方法變得可行。 一、前言 二、拋光墊修整器和修整力 為了計算移除率及發展一種既能提高移除 率且保持良好之不平整度的平坦化加工方法，拋 圖1 為拋光墊平坦化的加工機制。修整器主 光墊變形的分析是必要的。主要原因之一是修整 第二十屆機械工程研討會論文集 要的目的是引導鑽石顆粒於拋光墊上做磨削。圖 r d 2 展示修整器的結構，中心有一個握持器可以把 u (r) (ω(r,0,0) −ω(0,0,H))dξ, i 1,2,...,N i ∫