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第7章光探测器3
7.2 PN型光电二极管 一、光电二极管的工作原理: 光生伏特效应; 光电二极管的工作特点; 7.2 PN型光电二极管 二、结构和封装 7.2 PN型光电二极管 7.2 PN型光电二极管 7.2 PN型光电二极管 三、特型: 1、光谱响应特性 硒管:可见光谱范围,峰值波长500nm附近。 硅管:400nm—1200nm,峰值波长800nm附近。 锗管:峰值波长1.4um左右。 7.2 光电二极管及光电三极管 2、频率响应: 3、暗电流; 100nA 4、结电容; pF 5、反向电压;(10~50V) 6、灵敏度 7.3PIN及APD光电二极管 内容: PIN光电二极管 雪崩(APD)光电二极管 光电探测电路 7.3PIN及APD光电二极管 一、PN结型光电二极管的缺点: 1、频响不高: 耗尽层上发生的光吸收产生漂移电流(快电流); 中性层产生的电子空穴对,向耗尽层扩散(慢电流)。 7.3PIN及APD光电二极管 提高反向偏压能提高耗尽层厚度,减小结电容,快电流的速度加快,但是慢电流的速度提不高。 7.3PIN及APD光电二极管 2、PN结耗尽层只有几微米,大部分入射光被中性区吸收, 因而光电转换效率低,响应速度慢。 7.3PIN及APD光电二极管 二、PIN光电二极管的结构: 在P区和N区之间加入一层掺杂浓度很低的本征层(i层); P :positive I :Intrinsic N :negative 7.3PIN及APD光电二极管 7.3PIN及APD光电二极管 三、PIN光电二极管的特点: 1)明显较小了结电容,改善了频率特性,频率上限达GHZ。 2)本征层的电阻很高,有效减小了暗电流。 Si-PIN: 1nA; Ge-PIN:几百nA 7.3PIN及APD光电二极管 3)耗尽层显著加宽,量子效率提高,响应光谱展宽(长波的光谱特性改善)。 7.3PIN及APD光电二极管 四、异质结的PIN光电二极管 用于光纤通信中的接收机 7.3PIN及APD光电二极管 材料 Eg 截止波长 InP: 1.35ev 0.92um InGaAs: 0.75ev 1.65um In:铟 光纤的低损耗窗口: 850、1300、1550nm 7.3PIN及APD光电二极管 入射光在中性层不会产生扩散电流,只会在本征层产生漂移电流,频响非常高。 几百G。 7.3PIN及APD光电二极管 五、雪崩光电二极管(APD)的原理 PIN光电二极管即使在最大的响应度下,一个光子最多也只能产生一对电子-空穴对,是一种无内部增益的器件。 7.3PIN及APD光电二极管 借助强电场产生载流子倍增效应(雪崩倍增效应)的光电二极管。 Avalanche Photo Diode 7.3PIN及APD光电二极管 雪崩倍增效应: 载流子被强电场加速→ 晶格碰撞→ 晶体中的原子电离→ 新的电子空穴对(二次电子-空穴对) 7.3PIN及APD光电二极管 7.3PIN及APD光电二极管 六、APD的材料及结构 材料: Si:不适合制备1.31mm,1.55mm波长范围的器件 InGaAsP/InP :适合光纤通信 7.3PIN及APD光电二极管 结构: 1、基本结构在PIN光电二极管的基础上,对P区和N区都进行重掺杂,在邻近P区或N区引进n型或p型倍增区。 7.3PIN及APD光电二极管 2、SAM—APD Separate Absorption and Multiplication 7.3PIN及APD光电二极管 SAM-APD管有四层结构: 1、高掺杂的N+型半导体,为接触层; 2、P型半导体,为倍增层(或称雪崩区); 3、轻掺杂半导体I层,为漂移区(光吸收区);使用低禁带宽度的材料InGaAs。 4、高掺杂的P+型半导体,为接触层。 7.3PIN及APD光电二极管 7.3PIN及APD光电二极管 雪崩过程倍增了一次光生电流,因此,在雪崩光电二极管内部就产生了电流放大作用。 7.3PIN及APD光电二极管 七、APD的特点: 1)方向偏压高,一般为200V,接近(小于)反向击穿电压。 2)灵敏度高,电流增益可达1000倍数量级。 7.3PIN及APD光电二极管 3)噪声高,材料的Eg越小噪声越大
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