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氧化铝负载Co基FT合成催化剂还原性能-分子催化
第25卷 第3期 分 子 催 化 Vol.25,No.3
2011年6月 JOURNALOFMOLECULARCATALYSIS(CHINA) Jun. 2011
文章编号:10013555(2011)03023806
氧化铝负载Co基FT合成催化剂还原性能
侯朝鹏,孙 霞,王 倩,刘 斌,吴 玉,夏国富,李明丰,聂 红,李大东
(中国石化 石油化工科学研究院,北京 100083)
摘 要:采用XRD、TPR、XPS和HTPD等技术对Co/AlO催化剂的还原性能进行了研究.还原温度低时,催化
2 2 3
剂中Co物种还原不充分,活化不够,催化剂的FT合成反应活性偏低;高温还原时,由于催化剂中金属钴颗粒聚
集和增大使活性组分的有效活性面积减小,催化剂的FT合成反应活性下降.还原温度在400~500℃之间存在
最佳值,在此温度区间内对催化剂进行还原活化,催化剂的性能相对较好.
关 键 词:FT合成;氧化铝;催化剂;还原温度
中图分类号:O643.32 文献标识码:A
FT合成钴催化剂反应活性相为金属态的 果表明,过高的还原温度对合成重质烃不利,综合
钴[1,2],而焙烧后催化剂钴以氧化物形式存在,因 +
FT合成反应活性和C 选择性两方面因素,超细
5
此催化剂在反应前需用 H 还原活化,FT合成反 Co/ZrOSiO催化剂合成重质烃的最佳还原温度为
2 2 2
[3] 400℃.另外,在工业生产中,还原温度高对反应
应性能受还原活化条件的影响 .还原活化条件和
方式影响催化剂中Co的还原度和分散度,从而影 器的构造和材质的要求会更加苛刻,且会带来工业
响FT合成性能.还原温度是重要的控制参数,在 上的操作困难.
获得好的FT合成性能条件下,应选择尽可能低的 我们将在氧化铝负载的钴催化剂上考察还原处
还原温度,因为高温还原催化剂时金属 Co易烧结 理条件对催化剂的FT合成性能的影响,并结合
聚集,使Co的活性比表面和分散度降低.因此,在 XRD、TPR、HTPD等技术对催化剂进行了表征,
2
获得好的FT合成反应性能条件下,应选择尽可能 分析了还原温度影响催化剂性能的原因.
低的还原温度.
1实验部分
还原温度作为影响催化剂性能的关键因素之
[3]
一,人们进行了广泛的研究.Iglesia 对前人的研 催化剂制备采用饱和浸渍法和专利技术制备方
究工作进行了总结,发现Co的分散度与催化剂还 法,催化剂的焙烧温度为450℃.催化剂的表征采
原时的升温速率等因素密切相关,还原时升温速率 用BrukerD5005衍射仪对新鲜的催化剂样品进行
过快,短时间内产生较多的水,易使金属Co聚集, XRD分析,使用CuK 射线(0.154184nm),在2
α θ
Co分散度降低,因此,Iglesia认为钴催化剂还原时 =3°~80°范围
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